毫米波频段向30GHz以上迁移
行业正向30GHz以上的毫米波频段及波导技术转移以克服信号损耗。传统互连技术在高频下失效,工程师需重新设计信号路径。
GaN 与 GaAs 在射频领域的替代趋势。
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行业正向30GHz以上的毫米波频段及波导技术转移以克服信号损耗。传统互连技术在高频下失效,工程师需重新设计信号路径。
GaN 与 GaAs 在射频领域的替代趋势。
KnowMade报告显示2026年第二季度功率GaN专利由工业受让人主导,中国大学在创新方面保持强劲。该趋势反映了工业界与学术界在功率半导体领域的研发竞争加剧。
专利布局对长期供应链格局的潜在影响。
IVWorks升级GaN外延片产线,引入自主AI生产系统DOMM。公司正从自动化向AI自主决策转型,以提升生产效率。
技术升级有望提升良率与产能利用率,但短期现货价影响有限。
英特尔18A-P工艺通过Power Boost和应变工程,将RibbonFET和PowerVia性能提升至第一代以上,功耗降低18%,开关速度提升12%。该工艺在保持设计兼容性的前提下,通过优化接触电阻和互连层,实现了更高的晶体管驱动电流。
该技术升级将增强英特尔代工服务的长期竞争力,但短期内对现货市场价格无直接影响。
台积电与阳明交大团队开发出0.42纳米氧化铝界面,用于单层二硫化钼晶体管。该技术解决了二维半导体栅极介电层成核难题,实现了强电场控制与低漏电。
该技术属于基础研发突破,目前对现货价格及供需无直接影响。
SK海力士通过美国子公司招聘3D堆叠DRAM-on-Logic工程师,并与客户合作开发。该技术旨在解决移动AI的高带宽与低功耗瓶颈,SK海力士正与台积电推进HBM4及下一代架构研发。
(技术路线图更新,短期供需无直接影响)。
SK海力士开发CTI技术,将176层3D NAND干扰减少30%,保持力提升45%,单元尺寸缩小10%。为解决高堆叠3D NAND垂直干扰问题,公司转向缩小单元尺寸以增加容量。
技术突破为AI内存扩展铺平了道路,但尚未对现货价格产生直接影响。
Sofab Inks募资600万美元推进TinFab量产,该材料可替代C60以提升钙钛矿太阳能电池的粘附力与转换效率。资金将助力公司将产能从1x扩展至100x,并开发1x2米商用规格产品。
技术指标优异,但商业化落地时间及对现有供应链的冲击尚待观察。
德国初创公司NexiGO获200万欧元融资研发氧化镓功率半导体,目标是将充电时间缩短至10分钟以内。该技术较碳化硅效率提升10倍,成本仅为四分之一。
该技术验证为宽禁带半导体未来应用提供新方向,但短期无供应冲击。
Navitas Semiconductor否认Wolfspeed在特拉华州提起的专利侵权指控,表示将坚决辩护并预计胜诉。该诉讼涉及GaN功率IC和SiC技术。
法律纠纷引入不确定性,但短期内不影响供需基本面。
MIT研究人员将GaN晶体管嵌入单晶钻石层以解决热瓶颈。该技术发表于IEEE IMS 2026,通过异构集成消除寄生电容,提升6G及卫星通信系统可靠性。
这是长期技术突破,目前无明确的供需或价格影响。
imec、ASML与TSMC在300mm晶圆上成功集成互补2D晶体管,实现50nm节距。该成果利用EUV光刻技术打印28nm栅极,94%器件正常工作,是2D材料集成的重要里程碑。
该技术突破属于长期研发进展,对当前现货市场供需及价格无直接影响。
CEA-Leti研究人员利用3D电容架构将FRAM工艺缩至22nm,实现0.0028μm²超小单元。通过垂直集成HZO薄膜,该技术匹配10nm SRAM密度,并计划集成至22nm FDSOI平台。
FRAM技术发展,但短期对现货价格无直接影响。
亚利桑那州立大学与佐治亚理工学院研究人员分析了单晶集成IWO eDRAM的Rowhammer漏洞。IWO eDRAM是面向M3D集成的下一代内存技术。
该研究为下一代eDRAM的可靠性评估提供了重要技术参考。
英飞凌主导欧盟91亿欧元Moore4Power项目,联合62家机构研发下一代功率电子。该项目聚焦“More than Moore”异构集成,涵盖Si、SiC及GaN技术,应用于风电、电动车及铁路。
该技术路线图对未来SiC/GaN产能及效率提升具有长期指引意义。
铟公司获得美国能源部320万美元资助,用于开发从制造副产品中回收高纯镓的国内工艺。此举旨在为国防和半导体关键材料建立更安全的美国供应链。
长期可能降低镓的供应风险,但对当前交易价格或现货供应无直接影响。
三星电子首次在10a(亚10纳米)DRAM工艺上制造出功能正常的芯片,应用了4F²单元和垂直沟道晶体管(VCT)结构。该技术旨在突破DRAM微缩极限,计划于2028年量产。
此为远期研发里程碑,对当前DRAM供应、价格及交易决策无直接影响。
三家固态变压器初创公司融资2.8亿美元,多家巨头加码该技术。该技术利用SiC/GaN等宽禁带半导体,旨在替代传统变压器以实现800V DC数据中心配电。
长期功率半导体需求增长,但当前现货价格无直接影响。
英特尔代工服务发布19微米厚GaN芯粒,单片集成功率晶体管与硅基数字逻辑,耐压78V,射频截止频率超300GHz。该技术基于300mm硅基氮化镓工艺,旨在突破硅基器件在高功率/高频场景的物理极限。
/利多/关注: 中性——此为远期研发里程碑,对当前组件供应、价格及交易决策无直接影响。
英特尔晶圆代工宣布突破氮化镓芯粒技术,推出其宣称的全球最薄GaN芯粒。此举是其为AI时代定位为“系统级代工厂”战略的一部分。
此为长期研发进展,对当前元器件供应、价格及交易决策无直接影响。
爆款新品里,到底装了谁的芯片?拆开,一颗一颗给你看。
全部拆解| Analog | $0.68 | −5.9% |
|---|---|---|
| 连接器 | $0.75 | +0.2% |
| CPU | $386.74 | −21.3% |
| DDR4 | $88.40 | −0.2% |
| DDR52026-W13 | $14.89 | −11.2% |
| GPU | $478.20 | +8.2% |
| MCU | $0.68 | −61.7%异常波动 |
| MLCC | $0.01 | +54.0%异常波动 |
| MOSFET | $0.12 | −82.8%异常波动 |
| PMIC2026-W13 | $0.44 | −12.5% |
| SSD/HDD | $288.43 | 暂无 |