据报道，三星4纳米和5纳米工艺的良率相对稳定。由于近期客户订单激增，三星电子晶圆代工业务部门的4纳米工艺产能已接近饱和，公司正加大销售力度，力求为其5纳米工艺争取更多客户，且5纳米工艺还能提高现有生产设施的利用率。业内人士预计，4纳米工艺利用率的提高和新的5纳米订单将有助于三星晶圆厂近期业绩的提升。相比之下，三星在下一代旗舰级2纳米工艺上争取重要客户仍面临挑战：三星电子正在与全球大型科技公司洽谈基于2纳米工艺的半导体生产合同，但部分谈判进度有所滞后。原文说明，尖端工艺不仅需要对良率进行验证，还需要对能效、知识产权以及稳定的量产能力进行全面验证，因此从签订合同到实现量产需要相当长的时间。（新浪财经）
据快科技10月21日消息，行业内部人士透露，被英伟达实质性收购后的Groq正在积极评估将其下一代芯片中的SRAM替换为DRAM，并计划引入3D堆叠DRAM封装技术。Groq计划采用名为3DS的方案，利用TSV技术在DRAM芯片内部打穿数千个微型孔洞进行垂直互连，在保持现有DRAM标准接口协议的前提下以存储容量扩张为主要目标，这与追求极致数据交换速率的HBM侧重点不同。此举旨在摆脱传统SRAM架构在容量上的局限，以应对超大规模AI模型的推理需求；其现有LPU架构依赖的SRAM容量极小，在千亿级参数模型时存在不足。该方案目前处于计划/评估阶段。
日媒《日刊工业新闻》当地时间昨日（10月21日报道）称，Canon（佳能）计划到2029年将其面向半导体后端工艺的光刻机产能较当前水平提升50%。该计划为报道所援引的消息，属计划状态，尚未确认实施。佳能正在开发用于先进封装工艺的i线光刻设备，并开发了一种分辨率达0.8μm（800nm）的大尺寸基板光刻机台，能处理510×515(mm)基板，具备高对准精度和大视场角。佳能半导体设备事业部负责人三浦圣也在接受采访时表示，无掩膜直写图案化方案目前暂时还不是i线光刻机在RDL生产领域的直接竞争对手。原文未说明原因。
博通与TOPPAN的合资公司AST在新加坡开设FC-BGA基板厂，用于AI芯片生产。该厂面积为95,000平方米，将生产用于AI计算与网络芯片的大尺寸、高层数基板。原文以'will produce'表述，表明该厂投产仍属计划状态，原文未说明原因。
据行业报道，三星电子代工业务尚未与全球主要科技公司敲定2nm制程合同，同时需求已推动其4nm产线接近满载产能。公司正扩大努力争取新的5nm订单，以期提升成熟制程的利用率并改善代工业务的盈利能力。2nm客户签约仍处于未完成状态，4nm接近满载为已观察到的状态，原文将4nm接近满载归因于需求。
据韩国经济日报援引未具名业界消息报道，受欧洲电动汽车需求走强以及部分生产线转向储能系统（ESS）的提振，LG新能源位于波兰弗罗茨瓦夫的工厂产能利用率提升，并有望在第四季度实现营业利润扭亏为盈。该工厂第三季度的产能利用率已升至60%至65%区间，创下自2024年第三季度以来的最高水平。通常情况下，当该工厂的产能利用率达到60%-70%初段区间时，即可实现盈亏平衡。第四季度盈利为预期目标，尚非已实现结果。
据路透社报道，马斯克在一场SpaceX电话会议上表示，其半导体制造项目Terafab目标在2028年第三季度实现量产，但他承认第三或第四季度均有可能，并称该时间表“非常激进”，因为美国的先进逻辑芯片工厂通常需要三年或更长时间建造。在量产之前，Terafab计划于2027年5月或6月前后在奥斯汀研发设施生产首款使用SRAM电路的功能性测试芯片。设备供应仍是主要挑战，尤其是来自ASML以及Applied Materials、KLA等美国供应商；当被问及SpaceX是否已向ASML订购EUV光刻机时，马斯克未直接回答，但感谢ASML等供应商加快设备交付。据路透社报道，ASML预计即使计划扩大EUV产能，到2028年需求仍将超过供给。据The Elec报道，特斯拉和SpaceX正与韩国半导体材料、零部件和设备供应商洽谈建立Terafab供应链，多家公司已签署保密协议，其中HPSP和Hanmi Semiconductor是仅有的两家被公开与Terafab联系在一起的韩国设备供应商；但据报道Terafab寻求比中国竞争对手更低的价格。关于制造伙伴，TSMC董事长兼CEO魏哲家确认双方仍在讨论，但强调任何涉及TSMC的工厂必须由TSMC运营，这与马斯克10月7日关于其公司将自建自营Terafab（可能允许TSMC转租空间而不承担运营角色）的说法存在分歧；另据路透社援引彭博报道，Intel CEO陈立武表示公司将继续参与Terafab。
据业内2026年10月20日消息（原文日期为10月20日，年份未在正文中明确给出），三星晶圆代工计划于年内推出8纳米第二代8LPU+工艺平台，属于计划中事项，尚非已量产事实。对比上一代8LPU，该平台性能提升12%、功耗降低15%、逻辑面积缩减约8%；其还通过在8LPU FinFET晶圆上集成3.3V平面型I/O器件，将I/O面积缩减约10%。外界解读认为，此举意在高效盘活现有成熟的深紫外（DUV）产线，避开单价昂贵且全球仅有ASML能供货的EUV光刻机；该工艺瞄准不需要像2纳米那样高昂成本的车载、机器人、边缘AI芯片。8LPU+的核心目标产品预计为AI微控制器（MCU）以及汽车区域控制器（ZCU）。背景方面，三星8纳米工艺自2017年成功开发8LPP后正式商用，2018年推出8LPU；新平台的eMRAM达到车载一级（AG1）规格，单元面积0.017μm²、存储密度约20Mb/mm²。业内相关人士表示，三星8纳米老客户及希望获取车载认证的无晶圆厂企业将是潜在客户。
据Chosun Biz报道，三星电子据称已于本月早些时候开始Exynos 2700的晶圆生产，产量较Exynos 2600可能增加逾10%，以振兴其非存储半导体业务。Exynos 2700预计于2027年用于Galaxy S27系列，主要覆盖标准版和Plus版，并可能用于新的Pro版本；但Ultra旗舰机型越来越可能完全依赖高通Snapdragon处理器，最终芯片配置尚未确定。Exynos 2700据报采用三星代工第二代2nm工艺SF2P，相较用于Exynos 2600的第一代SF2，目标为性能提升12%、功耗降低25%、芯片面积缩小8%，且据称为首款采用SF2P进入量产的芯片；据The Bell，三星已与主要伙伴共享生产计划，但初期晶圆投片仍然有限。报道指出，Exynos 2700量产良率及其在Galaxy S27系列中的采用程度将决定非存储业务复苏的幅度；三星4nm产线据报接近满载，同时继续为5nm工艺寻找客户。此外，据TrendForce，移动DRAM价格预计在4Q26继续上涨，但涨幅放缓，因供应商将产能转向利润率更高的服务器产品，成本上升使三星自研处理器的价格竞争力更加重要。
美光科技宣布投资关键矿物加工和高纯度材料制造，预计将支持铟泰公司（Indium Corporation）在纽约中部的业务扩展，重启对先进半导体制造至关重要的关键矿物的美国本土加工。该投资是美光总额最高30亿美元的美国供应链计划的一部分。原文未说明投资金额的具体分配、时间表或产能数字；上述扩展为预计计划，尚属计划状态。
富临精工公告，公司及子公司四川班巧智能机器人有限公司与绵阳市涪城区人民政府签订投资协议，拟投资建设机器人智能电关节项目，计划总投资5亿元，分两期实施。其中一期投资2.5亿元，建设智能电关节及核心零部件产线，年产能预计200万套。该项目为拟投资计划，产能为预计数字，尚需实施推进。
宏昌电子拟投建先进封装膜材(GBF)、高端覆铜板等项目。原文未说明投资金额、建设地点、时间安排及产能规模，项目目前仅为拟投建计划，尚未提及已开工或建成。
据行业消息人士10月20日（原文未注明年份）称，三星电子计划使用2nm工艺制造其下一代M2800系列移动调制解调器芯片，从目前用于外置调制解调器的4nm工艺过渡；该外置5G调制解调器M2800计划于2027年完成开发，拟用于2028年发布的Galaxy S28系列，并与下一代Exynos 2800以双芯片配置搭配。调制解调器生产转向2nm将释放三星4nm产线产能，公司计划将其转用于HBM生产；行业人士称“三星代工正在将其大部分4nm产能转换为HBM制造”，4nm工艺用于制造位于HBM堆栈底部、含控制电路的基底裸片。三星将通过M2700继续使用4nm，M2700是配合2027年Galaxy S27系列中Exynos 2700的外置调制解调器；2026年Galaxy S26所用的Shannon 5410外置调制解调器（对外亦以Exynos Modem 5410销售）同样采用4nm工艺，三星在Galaxy S26和S26+的韩国版本中配备Exynos 2600与Shannon 5410组合，美国型号使用高通Snapdragon 8 Elite Gen 5。行业人士称三星已停用Shannon调制解调器品牌并以M系列取代。M2700虽采用相同4nm工艺，但据报道在三星MX（Mobile eXperience）事业部内部测试中获得好评，与前代不同；其通过设计和软件改进提升功耗效率与数据传输速度，利用光学收缩（optical shrink）将芯片面积缩小约4%，并从3GPP Release 17升级至Release 18、改进NTN卫星通信能力。行业人士称，现有Shannon 5410在空闲功耗和标准功耗测量条件下落后于竞品，经电压调整等改进后，M2700性能据称与竞品相当或更优。上述2nm转向与4nm产能转用均为计划，其实现情况原文未证实。
据TrendForce于2026年10月20日发布的消息，AI封装供应紧张正向上游蔓延，IC基板正受到供应瓶颈冲击。台湾厂商Unimicron警告，在CoWoS与EMIB需求升温的背景下，关键设备的交期已拉长，超过80%的关键设备交期拉长，部分设备交期达到30个月；同时关键材料在2027年面临潜在的20%短缺（短缺为潜在预测，非已实现结果）。
美国半导体离子注入设备制造商Axcelis于10月20日在韩国京畿道平泽市五松产业园内为其新Axcelis亚洲运营中心(AAOC)举行奠基仪式，计划将平泽业务扩展为亚洲制造枢纽。新设施占地约22,314平方米，建筑面积约15,537平方米，总楼面面积约为现有制造设施的5倍，将包含设备制造设施、仓库、无尘室和培训中心。建设预计需约18个月，计划于2028年下半年全面投入运营，投资总额约3,500万美元。新厂将主要制造用于前端半导体工艺的离子注入设备，并采用精益制造方法。AAOC是Axcelis在美国境外唯一的制造设施，该公司于2021年设立AAOC,2022年下半年开始生产出货，当时工厂面积约3,967平方米，产能相当于美国总部业务的约20%,60%的产出用于出口。Axcelis韩国员工数已从2022年的120人增至目前约200人，并计划中长期增至约300人。此前9月，Axcelis曾与美国贸易工业资源部官员在华盛顿特区举行投资宣言仪式。
KoMiCo于10月19日披露,其子公司MiCo Ceramics计划以1500亿韩元向LG Display收购位于庆尚北道龟尾的一座闲置工厂的土地及建筑物,用于分阶段扩大半导体制造设备用陶瓷加热器和静电卡盘(ESCs)的产能,该收购计划定于2027年2月19日进行。该工厂因LG Display缩减液晶显示器(LCD)业务而停运。收购价格相当于KoMiCo合并总资产的14.56%,仅收购成本(不含额外设备投资)就相当于其此前最大投资——第四龟尾工厂? 不,第四江陵工厂65.5亿韩元投资的2.3倍;龟尾地块面积183,565平方米,约为第四江陵工厂8,807平方米场地的21倍,总建筑面积389,540平方米。MiCo Ceramics目前运营位于安城的两个生产设施和江陵的四个生产设施,公司设备利用率为2026年上半年的79.6%。2026年上半年公司营收1495亿韩元、净利润487亿韩元,同比分别增长21.1%和46.5%。公司尚未披露如何为1500亿韩元收购及额外设备投资融资;其2025年底持有现金及现金等价物285亿韩元,据母公司半年度报告披露的子公司现金余额变动估算,截至2026年6月底约为622亿韩元,即使全部用于收购仍面临878亿韩元的缺口;2025年底公司有1180亿韩元借款及账面价值193亿韩元的可转换债券,且其IPO计划因重复上市的担忧面临障碍。KoMiCo官员表示,除已披露内容外难以提供具体细节。
据天眼查App显示，近日深圳沛顿半导体封测有限公司成立，法定代表人为王海兰，注册资本5亿人民币，经营范围包括集成电路制造、集成电路芯片设计及服务、电子元器件制造、电子产品销售、普通货物仓储服务等。股东信息显示，该公司由沛顿科技（深圳）有限公司全资持股，沛顿科技则由深科技（深圳长城开发科技股份有限公司）全资持股。原文未说明该公司具体产能规划或投产时间。
Thermaltake计划瞄准不断增长的边缘AI市场推出新的工作站产品线，属于计划扩张而非已落地产能变化。董事长Kenny Lin表示公司已从游戏零部件制造商转型为AI PC与工作站系统供应商。公司计划于2026年下半年推出三条产品线，并设定目标：AI相关产品在2027年贡献5%至10%的营收。该目标为计划/预期性质，非已实现结果。
韩国基板厂商Daeduck Electronics正在加速开发陶瓷芯基板（CCS），以应对AI半导体封装尺寸增大带来的翘曲和散热管理挑战。该公司目前正在进行性能和内部可靠性评估，计划在2027年和2028年推进样品及客户评估，并以2029年量产为目标；陶瓷芯被视为下一代大面积封装中玻璃芯的材料替代方案。以上均为计划/目标状态，量产尚未实现。
Genesem与全球第三大晶圆代工厂Company A及其外包封装合作伙伴达成独家协议，从2027年起独家供应配备AI视觉的切筋分片设备GVISION AI+。该设备于第三季度通过量产认证，2027年预计交付约20台，合同价值超过300亿韩元。AI功能使设备价格比现有型号增加10%以上。