Lumentum演示1060nm VCSEL光互联
Lumentum、Astera Labs和Corning在OCP峰会演示1060nm VCSEL光互联技术，专为AI机架级架构设计。该技术结合了Astera Labs的智能交换机和Corning的多模光纤。
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新光互连技术验证将推动未来AI服务器对高速光模块的需求。
- 相关厂商
- Lumentum Holdings Inc、Astera Labs Inc、Corning Inc
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- 10 / 100，低影响
Lumentum、Astera Labs和Corning在OCP峰会演示1060nm VCSEL光互联技术，专为AI机架级架构设计。该技术结合了Astera Labs的智能交换机和Corning的多模光纤。
新光互连技术验证将推动未来AI服务器对高速光模块的需求。
JEDEC发布首个硅光可靠性标准JESD264，规范调制器与波导测试。该标准填补光学测试空白，解决多芯片模块的热应力与对准问题。
（技术标准化推动行业应用，短期供需无显著变化）。
Heraeus展示射频厚膜金电路激光蚀刻技术，探讨铜导电油墨替代银的可行性。该技术演示旨在优化制造工艺并评估材料替代方案。
目前尚未对现货价格或供应产生实质性影响。
ASML坚持使用激光产生等离子体(LPP)技术，计划将EUV光源功率提升至1000W。尽管马斯克支持的FEL技术被看好，但ASML认为现有激光技术已足够。
EUV光刻机长期产能规划，短期现货价格影响中性。
神经形态芯片因融合存储与计算架构而面临侧信道攻击等安全挑战。与传统处理器不同，这种脑机架构使硅片和时序电路暴露于新型网络威胁之下。对当前交易决策无直接影响。
Si2联合Nvidia、Cadence及Synopsys等机构在DAC 2026设立LLM芯片设计基准测试标准。此举旨在建立统一、可复现的AI评估格式及报告标准，以改善EDA工具中的AI部署质量与速度。
此举虽推动AI在EDA领域的长期应用，但短期内对现货价格及供需无直接影响。
CPO技术需从器件设计转向全电光路径实现，封装PDK成为关键缺失环节。随着AI基础设施对带宽和功耗要求提升，单纯提升光器件性能已不足以支撑系统级集成。
CPO产业链设计工具与封装工艺的协同演进。
Photon Design在ISLC 2026展示量子点激光器与PCSEL模拟工具。该软件旨在加速新型激光器的设计验证。
仅提升研发效率，暂无现货价影响。
文章提出AI光子学需关注电光实现走廊(EORC)概念。单一器件性能不足以支撑AI基础设施，需整合热学、力学及材料约束。
该框架将推动硅光子及共封装光学技术向系统级集成发展。
Fraunhofer IZM展示了基于SiC MOSFET和AMB芯片嵌入技术的500 kW/l逆变器模块。该技术通过PCB嵌入和铜顶层金属化降低寄生电感，提升功率密度和热性能。
SiC功率器件封装技术，但当前对现货价格影响中性，属于研发里程碑。
韩国研究人员开发超快激光技术解决玻璃基板TGV互联瓶颈，助力CPO应用。该技术预计将缓解光电共封装领域的制造难题。
关注未来供应链技术突破。
原子量子计算架构具备可重构性优势，能实现非相邻量子比特交互。相比超导技术（IBM/谷歌），该架构可减少错误率。
未来技术演进潜力。
文章探讨AI对模拟设计的影响，目前主要用于辅助运算放大器等组件选择。研究显示AI可帮助优化设计流程，如加州大学戴维斯分校利用计算重构缩小光谱仪尺寸。
技术趋势，暂无实质性供需数据。
Zeus在其华城研究中心建成临时键合与解键合工艺测试平台，为内存客户提供设备与材料测试环境。该设施基于2022年启动的政府项目，旨在支持HBM制造工艺研发。
此为长期研发基础设施投入，对当前元件供应、价格及交易决策无直接影响。
研究人员利用长分裂电极MEMS阵列实现沙粒大小视频投影，虽源于量子计算机激光控制研究，但展示了新应用潜力。
（中性）：该技术突破展示了MEMS在激光控制领域的应用前景，但短期内对供应链无实质影响。
Vector Photonics使用其PCSEL激光器在500米距离上以50 Mbps速率完成了首次户外自由空间光通信演示。该测试由弗劳恩霍夫英国中心设计系统，将技术就绪度从TRL 4/5提升至6/7。
此为远期研发进展，对当前半导体供应链、价格及交易无直接影响。
Polar Light获110万欧元资助，启动为期18个月的双色Micro LED微显原型开发项目，并完成超500万欧元新一轮融资。该公司计划在2026年Q4启动单色绿光显示试产线。
此为远期技术路线图进展，对当前供应链、库存及现货价格无直接影响。
台积电COUPE硅光平台目标2026年量产，三星晶圆代工计划2027年推出光引擎、2029年提供CPO交钥匙服务。背景是GPU互连需求推动光传输技术发展，两家代工厂竞相布局。
/利多/关注: 中性，此为远期技术路线图，对当前电子元件交易无直接影响。
Silai半导体已完成第三批12英寸SiC激光剥离量产系统的交付，批量交付周期为28天。该技术旨在将单片加工成本降低50%，并将晶圆产出提升30%。
此为背景技术进展，对SiC晶圆长期供应、成本及潜在下游元件价格有积极但间接且非即时的影响。
日本OXIDE公司与芬兰Vexlum公司达成战略合作，共同开发用于量子计算和半导体制造的高功率深紫外激光系统。该合作旨在解决行业扩展中的技术瓶颈。
此为长期研发合作，对当前电子元件供应链、价格及采购决策无直接影响。