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ASML坚持LPP路线,EUV光源功率目标1000W

ASML坚持使用激光产生等离子体(LPP)技术,计划将EUV光源功率提升至1000W。尽管马斯克支持的FEL技术被看好,但ASML认为现有激光技术已足够。利多EUV光刻机长期产能规划,短期现货价格影响中性。

EUV Lithography System
euvcapacitytechnology

来源:Tom's Hardware · 2026/9/18 · 查看原始来源

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