美光预告G11 NAND:堆叠超400层、按面积密度约为276层G9 NAND的2倍,预计2027H2产能爬坡
10月22日消息,美光(Micron)当地时间昨日举行2026年度技术网络研讨会,对DRAM、泛HBM、NAND与SSD进行展望,本篇关注闪存类别。美光预告了预计2027H2产能爬坡的G11 NAND闪存,且似乎跳过G10世代。G11 NAND堆叠超过400层,应用晶圆对晶圆键合技术,按面积计算的存储密度约为现有276层G9 NAND的2倍,同时能实现至高1.5倍的I/O速率,数据传输能耗可减少25%以上。美光还表示在G11后计划在NAND中导入突破性的高迁移率材料,实现超密集单元架构、强化节能属性;并介绍了2种AI-class数据中心级NAND设计,分别是基于SLC的GPU直连IOPS优化产品、类似HBF定义的带宽优化产品。上述均为美光的规划/预告,尚未实现量产。
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