消息称佳能计划到2029年将后端光刻机产能较当前水平提升50%,正开发先进封装用i线光刻设备
日媒《日刊工业新闻》当地时间昨日(10月21日报道)称,Canon(佳能)计划到2029年将其面向半导体后端工艺的光刻机产能较当前水平提升50%。该计划为报道所援引的消息,属计划状态,尚未确认实施。佳能正在开发用于先进封装工艺的i线光刻设备,并开发了一种分辨率达0.8μm(800nm)的大尺寸基板光刻机台,能处理510×515(mm)基板,具备高对准精度和大视场角。佳能半导体设备事业部负责人三浦圣也在接受采访时表示,无掩膜直写图案化方案目前暂时还不是i线光刻机在RDL生产领域的直接竞争对手。原文未说明原因。
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- Canon(佳能)
- Part numbers
- FPA-8000iW
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- 62 / 100, medium impact