NuAxi半导体贸易情报
三星电子与SK海力士竞相锁定ASML EUV设备，ASML警告其规划产能将不足以满足2027年和2028年的客户需求
发生了什么
三星电子与SK海力士正在竞相从ASML securing极紫外（EUV）光刻设备，因这家荷兰供应商警告其规划产能将无法满足2027年和2028年的客户需求，引发对先进DRAM扩产所需关键设备供应保障的担忧。
影响与信号
中影响影响力评分：60/100
受影响器件与厂商
EUV lithography equipmentadvanced DRAM
EUVlithography equipmentcapacity shortageDRAM expansion20272028
来源与时间
来源：DigiTimes Asia · 2026/11/8 · 查看原始来源
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