上海微电子新一代前道干式光刻机通用技术平台模型亮相第九届进博会，展示国产前道光刻装备自主化阶段性成果

发生了什么

11月8日消息：第九届中国国际进口博览会于11月5日在国家会展中心（上海）开幕，上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称SMEE）在展会上携自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型正式亮相，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。据介绍，SMEE成立于2002年3月，位于上海，隶属上海电气集团，注册资本约2.66亿元人民币，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商。展出的模型采用透明剖视设计，平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线，高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控。IT之家获悉，目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆；多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%。文末背景补充：I-line波长365nm、KrF波长248nm，主要服务成熟制程；另有193nm ArF干式与浸没式方案；双工件台技术据测算可将生产效率提升约35%。本次为展会模型亮相，属阶段性成果展示。

影响与信号

受影响器件与厂商

来源与时间

来源：IT Home · 2026/11/8 · 查看原始来源