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上海微电子携新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相进博会中国馆，称国产前道干式光刻机成像性能已与国际领先水平相当

发生了什么

上海微电子装备集团（SMEE）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相11月5日至10日在上海举行的第九届中国国际进口博览会中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。据SMEE介绍，展出模型采用透明剖视设计，为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线，高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控。原文称，目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆。在售的SSC800系列KrF与SSB800系列I-line机型基于自研双工件台平台，均搭载国产自主大NA物镜；SSC800整体性能跻身行业第一梯队。关键零部件国产化率突破90%，已实现定型与规模化量产；多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%。