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英特尔据称宣传无中介层EMIB晶圆利用率超90%,展望未来AI芯片采用70多个桥接

发生了什么

据ZDNet Korea报道,在台积电CoWoS产能趋紧的背景下,英特尔强调了其先进封装技术EMIB(Embedded Multi-die Interconnect Bridge)和EMIB-T作为替代方案。英特尔代工封装总监Kyu-oh Lee表示,EMIB使用小型局部硅桥而非全尺寸中介层,晶圆利用率超过90%,而基于中介层的设计约为60%。报道称EMIB-T在硅桥中集成TSV以实现供电,已引起业界积极关注,且据称正在美国大型科技公司中获得关注:Google的TPU v9系列的HumuFish和TriggerFish据称可能采用英特尔的EMIB-T,而WhaleFish预计使用台积电的CoWoS-L;据ZDNet报道,Amazon也据称计划在其定制AI芯片中采用EMIB-T。据Lee所述,2026年商业化的AI芯片封装尺寸最高达120×120毫米,集成12个HBM堆栈和20多个EMIB桥;正在开发中的AI芯片目标封装至少120×180毫米、16个及以上HBM堆栈和至少38个桥;英特尔展望240×240毫米封装、集成超过32个HBM堆栈和70多个EMIB桥。据报道,联电(UMC)在台湾和新加坡的晶圆厂使用成熟12英寸晶圆工艺制造EMIB硅桥。同时,据TrendForce,台积电的CoWoS-L预计在2026年支持5.5X曝光面积的封装,集成4个chiplet和12个HBM堆栈,并预计到2028年扩展至14X,容纳20个chiplet和20个HBM堆栈。上述客户采用均为据报道的计划或预期,尚未确认为已实现。原文未说明原因。

影响与信号

中影响影响力评分:55/100

受影响器件与厂商

EMIBEMIB-TTSVHBMCoWoS-L
EMIBEMIB-Tadvanced packaginginterposerAI chipsCoWoS

来源与时间

来源:TrendForce · 2026/11/4 · 查看原始来源

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