快科技10月19日消息,iQOO预告将于10月28日发布全新小平板iQOO Pad Pro,号称“口袋电竞巨兽”。该机采用8.8英寸165Hz OLED屏幕,搭载高通第五代骁龙8至尊版旗舰平台(简称骁龙8E5)和自研电竞芯片Q3,内置9020mAh大电池。其中骁龙8E5采用台积电第三代3nm(N3P)制程工艺,延续高通自研Oryon架构,采用2+6全大核设计并放弃传统小核,配备2颗主频4.6GHz的Prime超级内核与6颗主频3.62GHz的性能内核;对比上代,单核性能提升20%,多核性能提升17%。该平板还搭载自研冰穹四重风冷散热系统(含被动散热的冰穹VC均热板、双层超高导热石墨,以及主动散热的LCP扇叶风扇与高导热铝合金风道)、高导热凝胶与冰穹隔热气凝胶,机身厚5.74mm、重298g,并搭载自研Q-flex操控技术、超感触控和超感陀螺仪。此为发布预告,产品尚未实际发布。
原文为Critical Manufacturing联合创始人兼CEO Francisco Almada Lobo的访谈。公司2009年成立于葡萄牙波尔图,核心产品为以制造执行系统(MES)为核心的工业运营平台;自2018年起成为ASMPT的一部分。其最强应用领域为半导体后段与先进封装,且该领域需求增长最快。公司提到新产能正在美国、欧洲、印度和东南亚建设,并指出先进封装将前端复杂性带入后段。这是背景性访谈内容,原文未涉及任何元件价格变动、产能关停或政策事件。
据SPIE Digital Library的技术分析,常规极紫外(EUV)光刻使用13.5纳米波长、通过反射光学系统配合定制光掩模,虽能以高产能打印极小特征,但每个新设计都需要昂贵的掩模组。无掩模EUV光刻提出不将图形存储在物理掩模上,而是使用可编程阵列或其他快速可寻址光学元件,将数字图形直接写入晶圆,从而避开电子束光刻串行逐点写入的速度瓶颈,缩短设计迭代周期并降低小批量生产的固定成本。文章指出该技术并非对EUV扫描仪或电子束工具的简单替代:EUV辐射被大多数材料强吸收,系统需在真空和专用反射光学下运行;可编程图形发生器需在EUV曝光下保持纳米级定位精度、控制热量与污染并避免缺陷;光刻胶在极小尺寸下的随机变异以及海量图形文件的实时处理也是挑战。首批成功应用可能是有选择性的,如快速原型、小批量先进器件、研究、掩模修复或特定关键层,而非全面取代大规模量产光刻。此内容为技术背景分析,不涉及具体厂商、产量、价格或订单数据。