2026年OCP全球峰会(10月12日至15日,圣何塞)显示焦点从开放服务器硬件转向开放AI基础设施,机架级标准化正扩展至AI工厂系统级协同设计
2026年OCP全球峰会于10月12日至15日在加利福尼亚州圣何塞举行,峰会凸显行业焦点从开放服务器硬件转向开放AI基础设施;机架级标准化目前正扩展到AI工厂的系统级协同设计。原文未说明原因。
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2026年OCP全球峰会于10月12日至15日在加利福尼亚州圣何塞举行,峰会凸显行业焦点从开放服务器硬件转向开放AI基础设施;机架级标准化目前正扩展到AI工厂的系统级协同设计。原文未说明原因。
快科技10月19日消息,华为畅享100系列正在路上,预计推出畅享100、畅享100 Pro和畅享100 Pro Max三款机型,新机将全系搭载麒麟芯片,支持5A、Wi-Fi 7和星闪技术。据数码博主“看山叔”透露的规格:畅享100 Pro Max配备6.84英寸OLED屏幕,最高亮度8000尼特,512GB版本搭载麒麟8020芯片,128GB和256GB版本采用麒麟8020A芯片,配备5000万像素RYYB主摄、800万像素前置摄像头、8800mAh电池,支持40W有线快充;畅享100 Pro搭载麒麟8020A芯片,采用6.7英寸OLED屏幕,后置5000万像素RYYB摄像头,前置升级至3200万像素,内置6100mAh电池,支持40W快充;标准版畅享100采用麒麟8000S芯片,6.56英寸LCD屏幕,后置1300万像素、前置800万像素摄像头,电池容量同为6100mAh,支持40W快充。华为尚未公布具体发布时间及售价,相关配置仍有待官方确认,原文未说明原因。
10月19日消息,RISC-V AI计算企业Tenstorrent于美国当地时间今日宣布完成总额达15亿美元(约合100.39亿元人民币)的E轮融资,投后估值达到62亿美元(约合414.95亿元人民币)。该企业由知名芯片设计师Jim Keller领导,此前在2024年底以约27亿美元的投后估值进行了D轮融资。本轮融资由Trace Capital和Innovation X领投,多家新老投资者参与。资金将用于支持Tenstorrent的大规模量产和全球商业扩张。Jim Keller表示其构建了统一架构并以各种规格销售,投资者认同这一模式。
2026年10月19日,半导体行业协会(SIA)赞扬GlobalFoundries在美国-日本战略投资initiative下的扩张计划。SIA宣布,GlobalFoundries被选中在纽约州马尔塔运营两座新半导体制造工厂,这是首批在美国-日本战略投资initiative下的半导体项目,美国和日本将共同拥有这些工厂。初始投资100亿美元将用于建设一座新晶圆厂,投产后每年可增加约90万片300mm晶圆的美国制造产能。另一项约100亿美元的投资将用于建设产能相似的第二座晶圆厂。两座工厂将完全由日本通过美国-日本战略投资initiative资助。GlobalFoundries计划在当年晚些时候动工建设第一座工厂。
General Micro Systems (GMS) 今日发布其 MOSA 兼容的智能外围 Expansion™ 模块,这是一系列雷电™ 使能的子系统。
摩根大通2026年10月19日发布的韩国股票策略报告指出,韩国综合指数(KOSPI)上周5个交易日累计下跌超15%,为年内第三次触及该阈值,前两次分别发生在3月和7月。该行认为此轮急跌的关键变化是:自8月底以来充当市场最主要边际买家的企业回购正在退场,其中三星电子回购计划已完成,SK海力士回购接近尾声;本轮下跌最初伴随企业回购放缓启动,随后因全球AI情绪波动加速,并在KOSPI跌破200日均线后触发技术性抛售。当前市场呈"卖方主导、买方观望"格局:外资持续卖出AI相关股票,趋势跟随型投资者压缩对韩敞口,散户情绪脆弱构成潜在抛压,杠杆ETF在下跌日放大卖压,长线机构表示需等待波动率回落后才入场。剔除存储板块(剔除三星电子、SK海力士、SK Square、SK Inc及三星物产)后KOSPI前瞻市盈率仅8.4倍,处于历史第11百分位,14日RSI降至光复节以来最低;该板块剔除后EPS预估仍持续上修,工业、金融和医疗领先。摩根大通维持自9月中旬以来的战术谨慎立场至10月底,理由包括加息周期启动、长端利率偏上、日元走强、油价偏高及美国中期选举前季节性疲软;同时维持6至12个月结构性看多。近期催化剂包括存储公司三季报及股东回报方案更新(验证窗口2026年10月31日前)、VKOSPI回落等,完整验证窗口定于2026年11月15日;若外资净卖出扩散至非存储板块或剔除存储后EPS转为下修,看多立场需重新评估。
据西门子于2026年10月14日宣布,其与英伟达推进合作,将英伟达cuLitho库与西门子Calibre制造软件集成,旨在使复杂的光掩模优化在全芯片规模上切实可行。据西门子称,该集成可使全芯片光学校近校正(OPC)工作负载速度提升至多12倍;西门子另引用针对选定工作负载至少10倍至17倍的仿真加速。这些测量针对特定计算任务,并不等同于整个芯片制造流程的等效加速,也不保证对每个客户配置都有相同改进。开发动因是工程师设计的图形不会自动精确印到硅片上:在极小尺寸下,衍射等物理效应会扭曲投影图像,而计算光刻可预测这些效应并调整光掩模几何形状。西门子将转向高数值孔径极紫外光刻(High-NA EUV)视为一大挑战。西门子还表示,加速可将漫长的周转时间从数周缩短至数天,并可能降低能耗和计算基础设施占用;其意义取决于在扩大有用优化规模的同时保持精度。
瑞萨电子近日发布了基于Gen 4+技术的650-V、20-mΩ d-mode GaN FET,采用8×8 mm双面散热(DSC)PQFN封装,型号为TP65H020G4PLSGBD,目前已向AI数据中心OEM和ODM送样,量产计划于2027年中。据瑞萨称,Gen 4+相较Gen 4通过单元设计和比导通电阻的渐进式改进,实现更低的RDS(on)、更小的尺寸、更低的栅极电容(CGS、CGD)和输出电容(Coss);Gen 6预计要到2027年才提供样品。该器件为d-mode,与LV硅MOSFET配对使用。封装支持顶面、底面或双面散热,当前支持20-mΩ器件,未来10–15-mΩ器件或可单冷板散热。相比TOLT封装,DSC PQFN在x-y轴封装面积减少约57%至60%,高度约1 mm(对比TOLT的2.35 mm,表格中为2.3 mm),热阻抗低9%至10%(0.36 °C/W对比0.4 °C/W),四开关功率级PCB面积可减少约15%至25%。在6-kW、800 V转48 V、运行于650 kHz至1 MHz的IBC演示板风冷测试中,DSC全负载效率提升0.14%,相当于6-kW转换器中约10+ W的额外功率;测试未使用液冷,下一步将进行液冷测试。DSC 8×8(含650-V GaN)应用于初级侧,每个模块仅承受约400 V,两个模块串联以适应800 V总线。DSC封装技术的主要应用是初级侧800 V DC转换为48 V、12 V和6 V的中间总线转换器(IBC)。针对800 V转6 V输出电流超过3,000 A的情况,瑞萨正与EPC合作推进LV GaN的DSC封装选项。瑞萨在10月12日至15日于加州圣何塞举行的OCP全球峰会上展示了该器件,作为其800-V电源解决方案的一部分。
台积电在10月15日的投资者说明会上宣布,计划在台湾台南新建一座3nm晶圆厂,生产预计于2028年上半年开始。台积电董事长兼CEO魏哲家表示,公司预计未来数年对3nm芯片的需求强劲。该新厂加入已在南部科学园区建设中的另一座3nm厂,后者预计2027年上半年开始量产。海外方面,魏哲家称亚利桑那3nm厂进度超前,设备正在安装,生产定于2027年第三季度开始;日本熊本第二座晶圆厂也将采用3nm工艺,预计2028年开始量产。为支撑3nm需求,台积电正将部分5nm产能转为3nm,并据《自由时报》报道在7nm、5nm和3nm工艺间优化产能。据台南市政府新闻稿,台积电自进驻南部科学园区以来已在该市建成20座晶圆厂及封装测试设施,在台南投资超过1.86万亿新台币(约570亿美元),创造超过11,300个直接就业机会;台积电还已在安定区市有土地上开建一座2nm厂,这是该公司首次在地方政府所有的土地上建厂。台积电与市政府均未披露新3nm厂的投资规模或产能。
据公开报道,闻泰科技旗下安世中国通过与中国战略合作伙伴达成合作,已实现MOSFET、逻辑IC等产品在12英寸晶圆平台升级;在晶体管与保护器件方面,部分产品已成功实现12英寸晶圆工艺平台的研发和量产,为全球首家掌握该项核心技术与生产能力的企业,12英寸单片有效芯片产出较8英寸提升约2.2至2.4倍,车规器件交付周期由12至16周压缩至4至6周。文章并援引中国汽车工业协会数据称,传统燃油车单车所需芯片约600至700颗,电动车约1600颗,智能汽车提升至3000颗左右,新能源汽车功率半导体单车价值量约为传统燃油车的2至3倍;在功率半导体行业整体供需偏紧、价格上行的背景下,本土晶圆直供与东莞封测构成的供应链闭环使MOSFET、逻辑IC等产品的本土交付确定性显著增强。原文未说明原因。
立昂微公告预计2026年前三季度归属于上市公司股东的净利润为1.74亿元左右,同比扭亏为盈;预计归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润为1.33亿元左右,同比扭亏为盈。公司称半导体硅片板块盈利能力大幅改善,主要受益于产品结构升级、产销规模扩张及产品销售单价上涨等。上述数据为公司预计的业绩预告,并非已实现结果。
据行业消息人士10月19日消息,三星显示正在开发一款不使用精细金属掩膜版(FMM)的7英寸级OLED原型,并准备采用其自主的Micro Patterned OLED(MPO)技术制作工程样品(ES)。该项目自3月启动,并非针对特定客户,而是基于假设的客户需求按接近量产标准开发;初步目标为2026年底,若样品准备情况不足,开发可能延至2027年第一季度。MPO开发在2026年初之前实际处于搁置状态:2025年9月,三星显示在其忠清南道牙山A2产线安装了应用材料旗下AKT的5.5代四分之一尺寸垂直沉积设备以评估无FMM技术,但该技术据称与公司现有中小尺寸及大尺寸OLED面板开发路线图不符,商业化方向也不明确。在3月获得并分析了一块采用Visionox无FMM ViP技术的智能手表OLED面板后,开发获得动力——分析结果显示其器件特性与FMM技术相当,与此前认为ViP良率和器件性能明显较低的判断不同;行业消息人士称Visionox仍在努力确保足够良率,但三星显示内部认为良率提升是其强项并可实现大幅进步。MPO通过微观隔离结构和光刻形成RGB像素而不使用FMM,且据称在制造后移除隔离结构,与保留隔离结构的ViP和LG Display的FliPP不同;业界观察人士认为这些工艺顺序与最终结构差异或可避开涵盖Visionox ViP、LG Display FliPP及应用材料无FMM技术的专利。该工艺被认为尤其适合高分辨率OLED显示:更易实现更紧的像素间距、减少有机层损伤和精细工艺控制复杂度、降低材料消耗和制造步骤数,省去蚀刻步骤也有望简化制造并降低成本。消息人士称MPO的开发方向比中大型面板更适合高分辨率OLED显示,一旦7英寸级样品可用,即可评估MPO技术优势在实际产品尺寸上的实现程度。
显示贴合设备制造商Shindo Eng Lab于当地时间10月15日在旧金山SEMICON West 2026上公布了一种芯片封装架构,将图形处理器(GPU)与高带宽存储器(HBM)垂直堆叠,中间夹一层约200微米厚的玻璃陶瓷中介层。该架构中GPU位于中介层上方、HBM位于下方,两者通过中介层中的垂直导电通孔连接;液冷模块分别置于GPU上方和HBM下方以相反方向散热;电力由底部印刷电路板(PCB)经金属柱输送至中介层并分配给两颗芯片。原文指出,当前AI半导体封装采用将GPU与HBM并排放置在硅中介层上的2.5D架构,垂直堆叠会缩短芯片间距离,但带来热量集中和热胀冷缩导致翘曲等挑战;Shindo声称其可调整热膨胀特性的玻璃陶瓷中介层结合两侧冷却可缓解这些问题。形成垂直导电通孔的技术为透过玻璃陶瓷通孔(TGCV),公司于9月发布,该工艺在玻璃陶瓷基板上用光刻同时形成孔洞图案并以铜填充;Shindo最初将TGCV作为倒装芯片球栅阵列(FC-BGA)基板中有机核心的潜在替代品提出。Shindo主要为显示面板与盖板玻璃贴合提供层压和真空贴合设备,此前无半导体基板业务经验。该公司已为该架构提交专利申请,并正与约10家公司进行技术讨论,已向其中部分公司提供样品;尚未披露其打算直接制造并销售中介层还是供应设备。Shindo一位官员表示,最终目标是实现以TGCV为基础技术、垂直集成GPU与HBM的3D架构,并计划将该结构提交给委外封测(OSAT)公司讨论潜在应用。该架构尚属提案阶段,未见量产或商业化实现。
Qualcomm于10月19日宣布,将在韩国江陵举办的2026年ITS世界大会(10月19日至23日,江原道江陵奥林匹克公园)上展示基于车联网(V2X)通信的交通安全技术与服务,并展示实际应用。大会聚焦智能交通系统政策、技术与服务,涵盖网联汽车、自动驾驶、智能基础设施与人工智能。Qualcomm将在会上演示七项技术,包括可扩展V2X、基于ADAS的V2X、智能基础设施、全球V2X解决方案以及合作伙伴利用Qualcomm技术开发的产品。Qualcomm韩国总裁金相杓发表了题为'Accelerating Innovation in Traffic Safety'的主题演讲。
10月19日A股半导体方向领跌:中证半导(相关ETF:561980)以4.54%的跌幅居首,科创50(相关ETF:588450)跌2.17%,科创创业50(相关ETF:588300)跌1.79%,创业板人工智能(相关ETF:159243)跌0.42%;当日半导体指数跌1.39%,板块内39家上涨、148家下跌,存储与设备链调整最为明显。海外情绪是主要源头:上周五费城半导体指数收跌3.83%、连续第8个交易日下跌,创2008年金融危机以来最长连跌,8个交易日板块市值蒸发近2万亿美元,AI算力服务商CoreWeave信用风险发酵,市场对AI资本开支回报的担忧传导至亚太,SK海力士、三星电子'存储双雄'大跌,韩国KOSPI早盘一度跌超3%。国内方面,长鑫科技三季报预告前三季度归母净利润1310亿至1325亿元、同比扭亏为盈,但三季度单季环比增速降至1%至3.9%,较一二季度的246%、113%明显放缓,市场按环比重新定价,该股早盘一度跌近9%,拖累科创50盘中跌超2%。
三星电子正在开发Exynos 2700,计划于2027年在其Galaxy S27系列中扩大使用(属于计划,尚未实现);与此同时,华为已将下一代麒麟芯片转入测试阶段。原文指出,双方的竞争举措正给三星带来压力,促使三星提升应用处理器(AP)性能、制造良率和成本竞争力,以减少对高通和联发科的依赖。原文未说明上述事件的具体原因。
据10月19日消息,奇瑞计划于10月20日在芜湖举办以“Change·改变”为主题的2026奇瑞全球创新大会,届时将发布首个汽车行业垂域大模型,并展示专为物理AI世界模型设计的车规级芯片作为底层硬件。大会期间,墨甲首款消费级家庭陪伴人形机器人“墨宝”计划全球首发并开启全球预订,奇瑞智慧农机产品矩阵也将公开亮相。出行与能源领域方面,原生前装Robotaxi将亮相,奇瑞将全球首发交流V2G技术和快充技术;10月16日,奇瑞与国家电网举行战略签约仪式,正式开启首个车网互联V2G规模化运营场站的建设。
10月19日,北京铭芯启睿科技有限公司宣布完成超4亿元A轮融资,由博原资本领投,博世创投、米哈游、兆易创新等跟投,小米战投等老股东持续加注;相关报道未披露本轮估值及股权稀释比例。本轮资金将用于RRAM(阻变存储器)产业化、商业化及新产品LPU(语言处理单元)研发。同日披露前Graphcore总裁兼大中华区总经理卢涛加入公司,出任CEO兼联合创始人,并启动第一代LPU研发,面向大模型推理场景;卢涛表示第一代LPU不采用RRAM,将使用更成熟的存储介质,目标为支持数万亿参数完整模型、实现每用户每秒1000 Token,该指标为研发目标,尚无实测性能支撑;LPU目前处于研发阶段,未披露流片、验证或交付时间表。此前10月14日,公司发布首代1Gb RRAM芯片泰山一号流片信息,基于1TnR技术路线(1T4R结构,一个选择晶体管对应四个阻变存储单元),搭配28纳米CMOS工艺,披露存储密度30Mb/mm²、访问延时小于20纳秒,并集成片上硬件纠错电路;泰山一号已完成流片、正在推进验证,尚未披露量产进展。公司三条产品线中的嵌入式RRAM IP已进入客户场景并计划扩大规模,但未披露客户名称、订单金额或出货量;混合存算产品未披露具体芯片型号、流片进度或商业化节点。
芬兰技术产业协会(TIF)发布了对欧盟《芯片法案2.0》的建议(该法案为委员会提案,尚待立法程序,资金尚未确定),主张法案应以需求为出发点。文中引用的市场背景数据:全球芯片销售额2025年达7010亿美元,今年将突破1万亿美元,并按欧盟委员会的估算到2030年达1.6万亿美元;欧洲目前生产的芯片占全球不到十分之一,覆盖自身消费约五分之一。提案要点包括:首次同时处理需求与供给(大挑战、行业主导的需求加速器、创新采购),首次OfType(first-of-a-kind)地位扩展至全价值链,许可审批上限为12个月,对量子芯片和光子学提供专项支持。资金方面:《条例》本身几乎不含新资金,资金将在2028—2034年欧盟预算与欧洲竞争力基金中另行谈判;委员会影响评估模型给出的示例投资为400亿欧元,业界建议设立300亿至600亿欧元的欧盟半导体专项预算。提案的战略项目优先领域清单包含先进制造、AI芯片、存储和前沿设计,但未包含量子与光子芯片制造。文章还提到,芬兰的行业主导战略'Chips from the North'目标是在2035年前将该行业收入提高两倍至50亿至60亿欧元,并归纳出七项建议(快速行动、确保关键规模的欧盟资金、保留并扩展first-of-a-kind定义至量子芯片制造、以战略项目建设需求导向的关键产能并锚定一座先进晶圆厂、赋予行业结构化角色、通过可信国际伙伴关系构建韧性、保持供应安全义务精准有限)。原文未说明原因——本文为立场性分析文章,不涉及具体价格变动或事件原因。
香港《首个五年计划(2026–2030)》及行政长官2026年施政报告重申香港微电子研发院(MRDI)为香港五大研发机构之一的地位,并支持加快建立香港首个国家制造业创新中心,该中心将由MRDI牵头并运营。原文未说明该中心的具体落成时间表或资金安排,目前仅为计划/获支持状态,尚未证明已建成或投入运营。
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| DDR52026-W13 | $14.89 | −11.2% |
| GPU | $478.20 | +8.2% |
| MCU | $0.68 | −61.7%Unusual |
| MLCC | $0.01 | +54.0%Unusual |
| MOSFET | $0.12 | −82.8%Unusual |
| PMIC2026-W13 | $0.44 | −12.5% |
| SSD/HDD | $288.43 | n/a |