美光经约二十年研究后放弃4F² DRAM、不将其推向市场,转而押注3D DRAM
美光决定不将4F² DRAM推向市场,尽管其自称发明了该单元设计并已研究约二十年。总裁兼首席技术与产品官Scott DeBoer于10月21日在公司技术网络研讨会上分享了这一决定。在理论上,4F²采用垂直沟道晶体管,与当今DRAM使用的6F²布局相比可将每个存储单元的占位面积缩小约三分之一;但DeBoer认为实际密度受限于电容器的封装密度而非单元占位面积,称其相对6F²的密度优势是'有点神话'。他还表示4F²可以制造,但成本和复杂度更高,且在最先进节点面临根本性的微缩问题,这指向3D DRAM。这使美光与竞争对手立场相左:三星和SK海力士都在开发4F²设计,中国的长鑫存储(CXMT)表示其首款4F²产品将是年底前推出的服务器DDR5 RDIMM。美光将继续微缩6F²,其1-delta节点计划于2027年下半年在爱达荷州博伊斯拉升产能,其后的1-epsilon节点将转向混合键合。3D DRAM作为并行路径在开发中,但尚无时间表,美光表示只有在经济性合理时才会切换。若竞争对手成功实现4F²的规模化低成本生产,这将是一次有风险的押注,尤其按美光自身的估计,2027年和2028年存储供应预计将更加紧张。
- Related manufacturers
- Micron, Samsung, SK hynix, CXMT
- Impact score
- 60 / 100, medium impact