ASML坚持LPP路线,EUV光源功率目标1000W
ASML坚持使用激光产生等离子体(LPP)技术,计划将EUV光源功率提升至1000W。尽管马斯克支持的FEL技术被看好,但ASML认为现有激光技术已足够。
利多
EUV光刻机长期产能规划,短期现货价格影响中性。
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- 20 / 100,低影响
ASML坚持使用激光产生等离子体(LPP)技术,计划将EUV光源功率提升至1000W。尽管马斯克支持的FEL技术被看好,但ASML认为现有激光技术已足够。
EUV光刻机长期产能规划,短期现货价格影响中性。
DARPA向密歇根大学Zetian Mi团队拨款300万美元,用于研发硅基III-V族材料生长技术。该项目隶属于M-STUDIO计划,旨在实现与先进制程兼容的通用异质集成。
此为远期研发进展,对当前组件供应、价格及交易无直接影响。
已经到底了