Intel CTO称技术层面已赶超台积电:个别指标仍差几个百分点,产能追赶是长期过程
快科技10月23日消息,Intel CTO Pushkar Ranade在美国博客节目Dwarkesh Patel的采访中表示,从技术层面看Intel已经赶超台积电,但在性能、功耗、面积和密度等方面可能还差几个百分点,到这个阶段没必要吹毛求疵。他同时承认在芯片产能上追赶台积电还是一个缓慢而渐进的长期过程,急不来。此外,前不久Intel高管曾首次明确其下一代工艺14A与台积电A14工艺的差距在5%以内,但该表态含糊,未说明是Intel领先还是台积电领先5%。文章还指出,14A能否获得更多大客户订单,关键不在那5%的技术指标,而在于产能、良率控制、按时交付能力和代工价格竞争力。
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