英特尔开始在亚利桑那州Fab 62安装设备,并推进俄亥俄州项目建设,AI数据中心处理器需求增强
英特尔正在推进其长期拖延的美国半导体制造项目:亚利桑那州Fab 62工厂正在进行设备安装,俄亥俄州工地建设持续推进。原文说明,这一进展发生在AI数据中心处理器需求增强之际,支撑该公司扩大产能并强化其代工业务的努力。原文未说明具体扩产量或投产时间。
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英特尔正在推进其长期拖延的美国半导体制造项目:亚利桑那州Fab 62工厂正在进行设备安装,俄亥俄州工地建设持续推进。原文说明,这一进展发生在AI数据中心处理器需求增强之际,支撑该公司扩大产能并强化其代工业务的努力。原文未说明具体扩产量或投产时间。
据IT之家10月22日报道,英特尔当地时间昨日表示其位于美国多地的产能建设项目正持续推进。在亚利桑那州Ocotillo园区的第六座量产晶圆厂Fab 62已全面进入建设和设备安装工作阶段,该设施预计于2028年底投入运营;俄亥俄州New Albany的Ohio One园区首座晶圆厂(Mod 1)已安装第一个大型结构桁架;此外英特尔今年早些时候还在加利福尼亚州圣克拉拉市破土动工兴建一座新的掩模制造厂。该事件属于规划中的产能扩建,原文未说明原因。
10月22日消息,马斯克在特斯拉第三季度财报电话会议上公布Terafab芯片制造项目规划:位于奥斯汀的研发晶圆厂正在取得进展,设备将于2027年上半年('明年上半年')启动调试,若一切顺利约在五六月份制造首批测试芯片以验证能否造出芯片。按规划,初期月产能为10万片晶圆,后续扩产至每月100万片;起步阶段仅尝试每月生产数千片晶圆,最初目标只是'验证技术思路'。Terafab的目标是'在2028年第三季度实现某类实用芯片的量产',马斯克还称其经济价值'或许能跻身全球前二十国家经济体的水平'。项目主要合作方是英特尔,双方将合作采用14A制造工艺;14A是英特尔下一代制程节点,马斯克本次发言并未说明其在Terafab 2028年量产计划中的具体作用,英特尔已确认14A工艺将于2028年第一季度进入量产。Terafab也是特斯拉生产AI5芯片的核心项目,该芯片将用于驱动擎天柱人形机器人。上述量产内容均为规划目标,未见已实现表述。马斯克同时计划为擎天柱建造一座'机器人学校'保障AI训练,并称年产100万台机器人的目标所需时间可能超过一年:百万台级产线绝大部分设备现已落户弗里蒙特工厂,但预计至少还需一年甚至更久才能达成对应年化产能,实现每周2万台的产量;设计层面难题预计2027年底解决。报道还提及擎天柱供应链搭建中,美乐达、亚洲光学等供应商据称参与提供谐波减速器、关节模组、执行器等零部件,以及训练用Optimi机器人需一万至两万台;Colossus项目计划年底在一处设施部署总计120万枚GPU芯片。
Intel于2026年10月21日(周三)宣布,已开始在其亚利桑那州Fab 62安装生产设备,该工厂按计划将在2028年底前实现量产;但公司未披露开始大规模生产的具体时间、计划晶圆产能及所需资本支出,也未正式将Intel 14A分配给Fab 62(Fab 62仍处于未分配状态,而Fab 52已被指定用于Intel 18A)。据Intel今年早些时候披露的路线图,Fab 62可生产18A、18A-P和14A节点的芯片。Intel同时确认已将High-NA EUV光刻技术整合进大规模生产(HVM),用于在俄勒冈州D1X工厂生产Panther Lake CPU的部分tile;但Intel未明确确认High-NA EUV扫描仪目前是否仅生产与Low-NA EUV相同的电路。此外,俄亥俄州New Albany的Ohio One制造园区最近安装了首座fab的第一根大型结构桁架,但Intel未提供更新的建设时间表,也未披露该fab何时开始运营、将采用何种工艺技术或产能规模。原文未说明原因(此为产能扩张进展,非价格或中断事件)。
埃隆·马斯克于10月20日在X平台上SpaceX 2026年第三季度财报电话会议的直播中表示,ASML及其他关键半导体设备供应商已加快向Terafab半导体制造设施(特斯拉与SpaceX的联合巨型项目)发货,以支持其激进的时间表。他说公司目标是到2028年第三或第四季度在位于得克萨斯州Gibbons Creek的主要工厂实现芯片量产,并强调该时间表'高度理想化'且带有'很大误差';SpaceX计划于2027年第二季度前后在得州奥斯汀的研发制造工厂生产首个实验性测试芯片。Terafab将采用基于英特尔14A制程节点的传统极紫外(EUV)光刻系统;英特尔于2026年4月正式加入Terafab项目以共同开发和重构硅制造技术。据非官方消息,Terafab首台EUV设备原定于2027年年中交付,目前尚不清楚这是否就是马斯克在广播中所指的加快交付的时间表。其他主要供应商包括美国设备制造商应用材料、泛林研究和科磊(KLA)以及日本的东京电子;特斯拉和SpaceX还在与约10家韩国设备制造商洽谈,包括以先进封装设备著称的Hanmi Semiconductor和高压氢退火设备制造商HPSP。马斯克还概述了其AI公司的算力目标:预计到2026年底有25-30亿瓦(GW)算力投入使用,到2027年底总计达到13 GW,并计划到2027年第二季度末使一个44万GPU的英伟达'Vera Rubin'训练集群上线。该事件属于计划/目标状态,尚未实现量产。
英特尔代工(Intel Foundry)的一篇评论文章称,引用美国半导体行业协会(Semiconductor Industry Association)数据,美国在全球半导体制造中的份额从1990年的37%降至2022年的10%。文章称,英特尔亚利桑那州Fab 62的建设和工具安装正在进行中,预计2028年底投入运营,同时其俄亥俄州项目达到了又一个结构里程碑;文章强调建设进展是为未来需求做准备的信号,但最终影响将取决于执行、客户采用和制造竞争力。文章还称,英特尔与49个州的4,500多家供应商合作,每年在美国国内的支出超过290亿美元。以上为评论文章内容与英特尔的表述,属计划中/进行中的建设,并非已实现的产能结果。
日本富士胶片正在扩大极紫外(EUV)光刻胶产能,以深化与三星电子的合作。公司在美国子公司总裁Brian O'Donnelly表示,富士胶片正在平泽生产EUV光刻胶,尽管尚未进入全面量产,但部分EUV光刻胶产品已通过主要客户的认证测试。富士胶片在静冈(日本,先进光刻胶开发与生产主基地)和平泽(韩国,邻近三星,用于最先进产品)两地扩建了EUV光刻胶生产设施,两地EUV光刻胶生产与检测设备于2025年10月开始运行。原文未明确说明平泽工厂何时进入全面量产。公司称人工智能(AI)正在推动2纳米及以下工艺材料需求,先进制程扩张增加了ArF和EUV光刻胶需求,此为扩张的原因。此外,富士胶片还在三星天安园区附近扩建CMP抛光液产能,计划增产约30%,新增设施定于2027年上半年开始运行,该公司在铜互连CMP抛光液领域持有全球最大市场份额。富士胶片还计划在美国得克萨斯州卡罗尔顿(邻近三星Taylor厂)等地布局,并考虑在韩国进一步扩充制造布局的多种方案。
据路透社援引知情人士的媒体爆料,三星电子和SK海力士正推进在华工厂的技术升级,目标是生产更先进制程的芯片,该消息为知情人士披露的升级计划。其中,三星正在推进其中国工厂的技术升级,以期实现286层NAND闪存芯片的生产,这一层数代表当前NAND存储技术的前沿水平,若落地将标志三星在华产能的显著技术跃升;SK海力士同样被指正在对其中国生产设施实施升级,升级方向与三星相近,旨在提升中国工厂的芯片技术规格。SK海力士在中国无锡拥有DRAM芯片工厂,并持有原英特尔大连NAND工厂的部分资产。同时,中国本土制造商长江存储也在技术层面取得新进展,路透社报道称其追赶步伐未因外部压力明显放缓,进展将进一步加剧全球NAND市场竞争。原文未说明两家公司升级计划的具体时间表。
据路透社报道,马斯克在一场SpaceX电话会议上表示,其半导体制造项目Terafab目标在2028年第三季度实现量产,但他承认第三或第四季度均有可能,并称该时间表“非常激进”,因为美国的先进逻辑芯片工厂通常需要三年或更长时间建造。在量产之前,Terafab计划于2027年5月或6月前后在奥斯汀研发设施生产首款使用SRAM电路的功能性测试芯片。设备供应仍是主要挑战,尤其是来自ASML以及Applied Materials、KLA等美国供应商;当被问及SpaceX是否已向ASML订购EUV光刻机时,马斯克未直接回答,但感谢ASML等供应商加快设备交付。据路透社报道,ASML预计即使计划扩大EUV产能,到2028年需求仍将超过供给。据The Elec报道,特斯拉和SpaceX正与韩国半导体材料、零部件和设备供应商洽谈建立Terafab供应链,多家公司已签署保密协议,其中HPSP和Hanmi Semiconductor是仅有的两家被公开与Terafab联系在一起的韩国设备供应商;但据报道Terafab寻求比中国竞争对手更低的价格。关于制造伙伴,TSMC董事长兼CEO魏哲家确认双方仍在讨论,但强调任何涉及TSMC的工厂必须由TSMC运营,这与马斯克10月7日关于其公司将自建自营Terafab(可能允许TSMC转租空间而不承担运营角色)的说法存在分歧;另据路透社援引彭博报道,Intel CEO陈立武表示公司将继续参与Terafab。
英特尔宣称自己是唯一具备大规模供应300mm InP硅光子能力的代工厂,此为英特尔单方面的宣称,文中未提供独立验证。原文称英特尔正在扩展其硅光子能力,背景是AI和高性能计算领域对高带宽光互连的需求增长。文中提及NVIDIA、博通和TSMC正在推动CPO商业化,并提问这可能是否会给英特尔(Team Blue)带来竞争优势,属于推测性表述而非已证实的结果。
据Wccftech在2026年OCP全球峰会上报道,英特尔正在扩展其硅光子学能力,原因是对AI和高性能计算(HPC)领域高带宽光互连的需求增长;英特尔宣称自己是唯一能够大规模向业界供应300mm磷化铟(InP)硅光子学的高产量代工厂,该技术旨在支持下一代近封装光学(NPO)和共封装光学(CPO)。原文指出,传统InP衬底通常限于150mm(6英寸)晶圆,3英寸和4英寸规格仍广泛使用,InP晶体脆性大、生长缓慢并存在缺陷控制挑战,限制每片晶圆的激光芯片产出并拖慢扩产;英特尔将基于InP的激光技术集成到其300mm硅光子学制造平台,旨在提高生产效率和可扩展性。TrendForce称,NVIDIA已开始向部分合作伙伴出货其Spectrum-X CPO交换机(与TSMC联合开发,采用COUPE技术),Broadcom继续有限出货其51.2 Tb/s Bailly CPO交换机,并在OCP 2026展示第三代Tomahawk 6-Davisson CPO交换机(102.4 Tb/s交换容量、每通道200 Gbps);TSMC计划于2026年开始生产其COUPE-on-substrate方案,目标相比板级可插拔光学实现两倍能效和十倍延迟降低。据ijiwei,中际旭创已建立专用CPO产线并开始小批量生产800G CPO光模块,部分客户已下单,出货可能于2027年开始、2028年有望更广泛采用;2026年9月,华为发布了基于NPO的昇腾960超节点,用于大规模AI训练和推理。TrendForce指出,测试仍是CPO量产关键瓶颈:光对准时间已降至秒级或更短,但单个光子集成电路(PIC)的完整测试仍可能超过100秒,瓶颈转向测试速度和成本;TrendForce预计2027年是整合CPO测试系统的关键年份,2028年是评估大规模量产准备的关键时期。
在2026年开放计算项目(OCP 2026)全球峰会上,英特尔展示了硅光子技术发展蓝图,数据中心系统与解决方案公司副总裁尼克·杜贝将硅光子形容为下一代系统架构的“黄金之锤”,并称英特尔是目前唯一能够大规模量产300毫米磷化铟(InP)硅光子晶圆的高产能代工厂。原因方面,源文称传统铜线互连正日益逼近物理极限,在传输距离、封装边缘带宽密度及每比特传输能耗等方面面临瓶颈,数据中心架构需向光互连演进,能耗目标推进至低于5皮焦耳每比特。英特尔指出,当前光学收发器市场中激光芯片与磷化铟材料产能长期供不应求,其将磷化铟光源技术直接整合进300毫米硅晶圆制程以提升制造效率与产能规模;自2016年投入商用以来,已累计出货超过800万个光学收发器和3200万个集成激光器。英特尔正依托300毫米硅光子制程与集成磷化铟光源技术推动共封装光学(CPO)与近封装光学(NPO)发展。
据Tom's Hardware于2026年10月17日报道,在传出RTX 5090生产将停止的传闻后,英伟达高级副总裁Jeff Fisher据称在会后采访中表示该显卡并未停产并将继续出货。其据称表示:"供应链(产能)确实有些受限,但英伟达正在尽一切努力将产品推向市场……生产并未停止,英伟达将继续出货",并称尽管存在RTX 5090(芯片)的其他变体。此前有传闻称,在英伟达据报将RTX 50 Super系列搁置后,已经很稀缺的RTX 5090生产据传将停止,可能是为了将宝贵的硅片制造产能用于更多AI加速器。零售端实况:亚马逊上RTX 5090由第三方卖家以约8,500美元出售;Newegg listings 5090s约7,300美元(据判断可能来自中国卖家,且美国关税可能进一步推高价格);Best Buy无货;截至发稿,该卡在英伟达自有商城和Micro Center仍缺货。Tom's Hardware向英伟达求证未获回复,相关说法均属"据称/传闻"性质,生产状态尚未获官方确认。原文未说明供应链受限的具体原因之外,传闻中将产能转向AI加速器仅为"可能"的说法。
台积电董事长兼CEO魏哲家在第三财季(2026年7月~2026年9月)财报电话会上宣布已量产5倍光罩尺寸先进封装,良率“非常优秀”,并称目前除台积电外尚无其他企业能做到这一规模,客户对量产结果十分满意。台积电正在开发9倍光罩尺寸封装,并朝14倍光罩尺寸推进。TechNews援引Anue今年8月报道:台积电5.5倍光罩尺寸CoWoS已进入高量产阶段,多家AI客户产品良率稳定超过98%,部分甚至达到99%;公司计划到2029年将CoWoS扩展至14倍以上光罩尺寸。面对英特尔EMIB等竞争方案,魏哲家未直接点名,但表示若客户在竞争对手处无法获得足够的先进封装产能,台积电将做好准备,其首要任务是确保客户产品顺利上市并提供最佳技术与足够产能。
台积电3Q26财报后,外资券商发布解读:台积电将2026年营收增长展望上调至44%(同比),并预计4Q26再创单季纪录,同时维持2026年资本支出指引在600亿–640亿美元,但示意未来三年支出显著提高;文中指出,在半导体设备价格上涨背景下,台积电承认"设备通胀是真实的",为资本支出进一步增加埋下伏笔。券商据此上调资本支出预测:UBS最乐观,预计2027年支出同比增长约45%至900亿美元,2028年再增至1,050亿美元;Morgan Stanley根据对设备供应商的初步查核,预计2027年EUV机台订单可能翻倍、2028年再增25–30%,并将2027/2028年资本支出估计分别上调至830亿和920亿美元;Goldman Sachs与BofA Securities均预计2027年支出达850亿美元。以上均为计划/预测,尚非已实现支出。产能方面:台积电计划加速2nm量产并扩建3nm产能(后者规划四座晶圆厂);2nm营收占比从上季3%升至3Q26的8%,管理层预计2027年产能"将增加超过一倍"。毛利率承压:4Q毛利率指引65–67%,较3Q的66.4%上行空间有限(券商评估归因于2nm爬坡拖累盈利);Citi、UBS与Goldman Sachs均预测2026年毛利率66.6%,2027年升至66.7–68.9%,2028年达67.1–68.9%。定价方面:Daiwa预测台积电以8英寸约当晶圆计的平均售价从2026年的3,513美元升至2027年的4,034美元、2028年的4,231美元;UBS模型更乐观,预计2026/2027/2028年分别为3,691/4,417/5,177美元。先进封装:Aletheia预计台积电尖端晶圆营收2026–2028年翻倍、先进封装营收同期增至四倍;Goldman Sachs预测CoWoS产能2026年达127.5万片晶圆(约每月10.6万片),2027年同比激增114%至273万片(每月22.75万片),2028年再增27%至348万片(接近每月29万片)。
据ZDNet援引业内消息,三星考虑为OLED Galaxy智能手机所用显示驱动IC(DDI)增加GlobalFoundries作为第二家代工伙伴,可能结束UMC的独家代工地位;GlobalFoundries代工的DDI最早或于2027年底出现在Galaxy智能手机中,部分中低端Galaxy A系列机型或率先采用,三星据报正在评估GlobalFoundries的22nm或28nm节点,其在新加坡和德国拥有兼容制造设施。背景原因:自2025年下半年以来成熟制程需求超过供给,UMC无法承接额外订单;据ZDNet,三星在7月发布Galaxy Z Fold8后因需求超预期要求加快DDI生产,但UMC因22nm DDI产能已达上限而无法满足,三星因此将9月Galaxy Z Fold8零部件计划产量削减10%,将延后产量移至10月。另据Economic Daily News,机构投资者预计UMC 12英寸产能利用率到2026年底达93%,受三星System LSI与联咏22/28nm DDI订单及55/65nm Apple Mac相关芯片需求支撑;TrendForce称部分产能受限的12英寸成熟制程节点2026年第二至第三季度出现5–10%涨价迹象,2027年预计更大范围涨价。以上均为报道/评估或预期,非已确定事项。
据IT之家10月15日援引路透社今日报道,SK海力士正计划以在美国新建NAND工厂的方式,向美国政府换取为中国大连工厂引进更多美国制造半导体设备的许可。两名知情人士称,SK海力士希望通过提升中国工厂产能为美国新工厂提供资金,并逐步扩大美国生产布局。SK海力士旗下美国子公司Solidigm希望在大连工厂尚未充分利用的厂房区域(厂区名Mod B,2023年建成,因当时存储市场低迷设备安装未完成)安装更多设备用于生产NAND闪存;该区域目前已安装部分设备,仍有空间容纳更多生产工具,Solidigm已申请出口许可证采购额外设备。SK海力士表示Mod B的设备安装正与美国政府密切协商并在获得授权的情况下进行,同时强调目前并未寻求扩大大连Mod B的产能;Solidigm拒绝置评。路透社9月曾报道Solidigm考虑在美国建设NAND闪存工厂,纽约州北部为主要候选地点之一;另一名知情人士称Solidigm正考虑最早于2027年进行IPO以筹集可能用于新工厂建设的资金。报道还提及美国政府正推动SK海力士、三星电子等海外半导体企业赴美建厂;人工智能和云计算数据中心需求增长、全球存储芯片供应趋紧、NAND闪存价格持续上涨,促使相关厂商考虑扩大生产。此外,SK海力士还在与英特尔洽谈租用其俄亥俄州半导体制造设施的部分空间,并已在印第安纳州启动一座主要面向HBM产品的先进封装工厂建设。大连工厂设备来自泛林集团(Lam Research)、应用材料(Applied Materials)和科磊(KLA)等美国厂商。
ASML于2026年10月14日发布2026年第三季度财报,称AI热潮带来的空前支出与投资并未放缓,客户已在排队为其先进芯片制造设备下单2029年和2030年的产出;CEO Christophe Fouquet表示,尽管公司在7月宣布了2027年提升产能30%、2028年再提升30%的计划,公司将难以满足需求。公司还确认将从2027年起提价,全部效果将在2028年显现。Q3 2026财报显示净利润为49.6亿欧元,净销售额为117亿欧元;公司预计第四季度销售额为142亿至152亿欧元(159亿至170亿美元),并将全年销售预期从至少430亿欧元上调至440亿–450亿欧元。周三ASML股价上涨2%,今年迄今累计上涨近70%,市值达5860亿欧元,成为欧洲市值最大的公司。此外,据Reuters报道,据报道Terafab将于2027年中期从ASML收到其首台EUV芯片制造工具;CFO Roger Dassen称仍在评估该(Terafab)机会的确切规模。
摘要:TSMC 首席执行官 C.C. Wei 在 2026 年 10 月 15 日(星期四)的确认中表示,公司正在考虑在美国亚利桑那州以外扩大产能,得克萨斯州是其中一个选项;已派团队到得克萨斯进行评估,并与一位正在尝试建造名为 Terafab 的晶圆厂的客户(埃隆·马斯克)进行了讨论。若 TSMC 加入该项目,将坚持由 TSMC 运营该晶圆厂。目前双方仍在讨论中,尚未达成任何协议。
据消息人士透露,马斯克旗下芯片项目Terafab可能在明年年中迎来其首台EUV光刻设备。研究机构SemiAnalysis此前预计Terafab建筑将在15个月内竣工,并需要六个月的时间来安装设备和生产设施。此外,Terafab最初的芯片预计仍将使用传统芯片设备,以配合英特尔的14A工艺。上述时间与设备安排均为消息人士透露及第三方机构的预计,项目尚处计划阶段,原文未说明原因。
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| DDR52026-W13 | $14.89 | −11.2% |
| GPU | $478.20 | +8.2% |
| MCU | $0.68 | −61.7%Unusual |
| MLCC | $0.01 | +54.0%Unusual |
| MOSFET | $0.12 | −82.8%Unusual |
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