QYResearch：2025年全球高纯铌溅射靶材市场销售额达0.78亿美元，预计2032年达1.25亿美元，CAGR 7.0%（2026-2032）

据QYResearch（北京恒州博智国际信息咨询有限公司）统计及预测，2025年全球高纯铌溅射靶材市场销售额达到0.78亿美元，预计2032年将达到1.25亿美元，年复合增长率（CAGR）为7.0%（2026-2032）；报告标题另给出2026年全球规模83.59百万美元。报告还指出2025年高纯铌溅射靶材年产能约150吨。高纯铌溅射靶以高纯金属铌为原料，用于PVD和磁控溅射，下游需求来自半导体、超导、光学及先进电子薄膜等领域。行业受高纯铌成本较高、合格原料来源有限、制造要求严格及部分下游应用规模相对较小制约；钽、钼、钨、钛等其他难熔金属可能形成替代竞争。报告历史数据为2021至2025年，预测数据为2026至2032年。上述2032年规模及CAGR为预测值而非已实现结果。

来源：格隆汇·半导体 · 2026/10/20 · 查看原始来源