NuAxi半导体贸易情报
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台积电推迟采购ASML高NA EUV光刻机
台积电宣布将推迟至2029年后部署ASML最新高数值孔径EUV光刻机，该设备单价超3.5亿欧元。公司副首席运营官表示现有EUV设备已能满足A13制程需求。利空：此举直接削弱了高端半导体设备短期需求，对ASML营收构成潜在压力，并可能缓解晶圆厂资本开支负担。
High-NA EUV Lithography Systems
capexequipmentdemand-weakness
来源：华尔街见闻 · 2026/4/22 · 查看原始来源
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