美拟立法限制ASML对华销售DUV光刻机

美国修订后的《MATCH法案》计划对ASML的DUV浸没式光刻机对华销售实施全国性限制，但取消了针对泛林和东京电子低温蚀刻工具的早期禁令。该法案源于行业及盟友政府对4月初过于宽泛草案的强烈反对，旨在实施更具针对性的管控。关注：法案若通过将直接冲击ASML等设备商在华收入，重塑全球半导体设备供应链格局，并可能引发中国通过其他渠道加速设备储备。

来源：TrendForce · 2026/4/16 · 查看原始来源