NuAxi半导体贸易情报
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ASML延长低NA EUV生产至2031年并加速高NA量产
ASML将低数值孔径EUV光刻机生产路线图延长至2031年，并加速高数值孔径EUV量产，受内存芯片需求推动的2026年Q1超预期业绩支撑。此举源于对先进逻辑与存储芯片制造长期设备需求的确认。关注：双重路线图稳定了成熟EUV节点设备供应，同时加速下一代能力，影响晶圆厂设备采购节奏。
EUV Lithography Equipment
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来源：DigiTimes Asia · 2026/4/16 · 查看原始来源
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