芬兰技术产业协会(TIF)发布了对欧盟《芯片法案2.0》的建议(该法案为委员会提案,尚待立法程序,资金尚未确定),主张法案应以需求为出发点。文中引用的市场背景数据:全球芯片销售额2025年达7010亿美元,今年将突破1万亿美元,并按欧盟委员会的估算到2030年达1.6万亿美元;欧洲目前生产的芯片占全球不到十分之一,覆盖自身消费约五分之一。提案要点包括:首次同时处理需求与供给(大挑战、行业主导的需求加速器、创新采购),首次OfType(first-of-a-kind)地位扩展至全价值链,许可审批上限为12个月,对量子芯片和光子学提供专项支持。资金方面:《条例》本身几乎不含新资金,资金将在2028—2034年欧盟预算与欧洲竞争力基金中另行谈判;委员会影响评估模型给出的示例投资为400亿欧元,业界建议设立300亿至600亿欧元的欧盟半导体专项预算。提案的战略项目优先领域清单包含先进制造、AI芯片、存储和前沿设计,但未包含量子与光子芯片制造。文章还提到,芬兰的行业主导战略'Chips from the North'目标是在2035年前将该行业收入提高两倍至50亿至60亿欧元,并归纳出七项建议(快速行动、确保关键规模的欧盟资金、保留并扩展first-of-a-kind定义至量子芯片制造、以战略项目建设需求导向的关键产能并锚定一座先进晶圆厂、赋予行业结构化角色、通过可信国际伙伴关系构建韧性、保持供应安全义务精准有限)。原文未说明原因——本文为立场性分析文章,不涉及具体价格变动或事件原因。
原文为Critical Manufacturing联合创始人兼CEO Francisco Almada Lobo的访谈。公司2009年成立于葡萄牙波尔图,核心产品为以制造执行系统(MES)为核心的工业运营平台;自2018年起成为ASMPT的一部分。其最强应用领域为半导体后段与先进封装,且该领域需求增长最快。公司提到新产能正在美国、欧洲、印度和东南亚建设,并指出先进封装将前端复杂性带入后段。这是背景性访谈内容,原文未涉及任何元件价格变动、产能关停或政策事件。
据SPIE Digital Library的技术分析,常规极紫外(EUV)光刻使用13.5纳米波长、通过反射光学系统配合定制光掩模,虽能以高产能打印极小特征,但每个新设计都需要昂贵的掩模组。无掩模EUV光刻提出不将图形存储在物理掩模上,而是使用可编程阵列或其他快速可寻址光学元件,将数字图形直接写入晶圆,从而避开电子束光刻串行逐点写入的速度瓶颈,缩短设计迭代周期并降低小批量生产的固定成本。文章指出该技术并非对EUV扫描仪或电子束工具的简单替代:EUV辐射被大多数材料强吸收,系统需在真空和专用反射光学下运行;可编程图形发生器需在EUV曝光下保持纳米级定位精度、控制热量与污染并避免缺陷;光刻胶在极小尺寸下的随机变异以及海量图形文件的实时处理也是挑战。首批成功应用可能是有选择性的,如快速原型、小批量先进器件、研究、掩模修复或特定关键层,而非全面取代大规模量产光刻。此内容为技术背景分析,不涉及具体厂商、产量、价格或订单数据。