韩日提出垂直DRAM架构，互连提升4倍
韩日研究人员提出V-Die与MOSAIC架构，将DRAM垂直放置以解决HBM散热问题。V-Die通过液冷将互连提升4倍并降低37%延迟，MOSAIC则利用感应耦合提升30%容量与3倍热导率。
中性
该技术目前仍处于原型阶段，对现货价格无直接影响。
- 相关厂商
- SK hynix、Samsung Electronics、Micron、UNIST、University of Tokyo
- 影响评分
- 10 / 100，低影响
韩日研究人员提出V-Die与MOSAIC架构，将DRAM垂直放置以解决HBM散热问题。V-Die通过液冷将互连提升4倍并降低37%延迟，MOSAIC则利用感应耦合提升30%容量与3倍热导率。
该技术目前仍处于原型阶段，对现货价格无直接影响。
三星、英特尔及台积电已启动2nm量产并规划1.4nm节点。台积电侧重差异化技术，三星聚焦良率，英特尔则激进推进GAA与High-NA EUV。
未来先进制程产能与技术路线图将重塑供应链格局。
SanDisk计划将下一代堆叠式内存HBF的试产线时间表提前约半年，目标在2026年下半年推出原型，2027年商业化。该技术将复用HBM的材料与设备供应链生态，SK海力士与三星电子也在推进相关标准与专利布局。
/利空/关注: 此为远期技术研发进展，对当前存储芯片的现货供应、价格及短期交易无直接影响。
三星支持的垂直Die研发项目目标HBM I/O密度提升10倍及带宽增长4倍。该项目由KAIST教授主导，通过直立芯片架构突破TSV限制，论文将于2026年6月IEEE会议发表。
影响，属于长期技术趋势，无即时供需变化。
文章探讨多芯片系统高速接口的自动化布线技术，重点分析HBM与UCIe标准下的布线挑战。随着信号密度增加，自动化布线成为解决信号完整性与路由拥堵的关键。
技术趋势，无直接供需影响。
文章详述了在多芯片系统中，HBM和UCIe等高速裸片间互连布线复杂性激增，推动自动化设计工具需求。内容聚焦EDA设计流程与技术挑战，未涉及供应链、产能或价格变动。
/利多：无直接交易影响，属行业技术背景信息。
泛林集团CFO预测DRAM将从4F²架构演进至3D堆叠结构，以突破物理微缩极限。该转型预计将使半导体设备可服务市场规模扩大1.7-1.8倍，并需要TSV蚀刻等新工艺。
此为长期设备需求催化剂，但对当前DRAM组件供应及价格无直接影响。
多芯片系统设计正从手动规划转向自动化TSV与微凸块布局。随着连接密度增加，传统方法已无法满足现代系统对信号完整性和路由可行性的要求。
自动化工具将提升设计效率，但短期内对现货价格无直接影响。
三星在SEMICON Korea 2026首次公开zHBM详细规格，早期测试显示其带宽可达HBM4的四倍且功耗降低75%。英特尔与软银旗下SAIMEMORY合作展示了Z-Angle Memory原型，采用对角线互连以解决传统HBM堆叠的热瓶颈。
此为远期技术路线图，未提及量产时间、产能或对现有HBM市场供需的直接影响。
英特尔与软银旗下SAIMEMORY合作，基于其NGDB技术开发名为ZAM的新型堆叠DRAM架构，据称密度可翻倍且功耗减半。此举旨在为高性能计算和AI市场提供HBM的替代方案，但目前仍处于商业化开发阶段。
该长期技术合作可能在未来数年影响高端内存竞争格局，但对当前HBM现货供应与价格无直接影响。
付费报告详述了HBM技术路线图，包括采用定制基板的HBM4及供应链影响。HBM因AI加速器需求强劲，在DRAM市场中占据高价值地位。
报告为技术背景分析，未提供影响短期交易的产能、价格或短缺具体数据。
已经到底了
爆款新品里，到底装了谁的芯片？拆开，一颗一颗给你看。
全部拆解| Analog | $0.68 | −5.9% |
|---|---|---|
| 连接器 | $0.75 | +0.2% |
| CPU | $386.74 | −21.3% |
| DDR4 | $88.40 | −0.2% |
| DDR52026-W13 | $14.89 | −11.2% |
| GPU | $478.20 | +8.2% |
| MCU | $0.68 | −61.7%异常波动 |
| MLCC | $0.01 | +54.0%异常波动 |
| MOSFET | $0.12 | −82.8%异常波动 |
| PMIC2026-W13 | $0.44 | −12.5% |
| SSD/HDD | $288.43 | 暂无 |