ASML坚持LPP路线,EUV光源功率目标1000W
ASML坚持使用激光产生等离子体(LPP)技术,计划将EUV光源功率提升至1000W。尽管马斯克支持的FEL技术被看好,但ASML认为现有激光技术已足够。
利多
EUV光刻机长期产能规划,短期现货价格影响中性。
- 相关厂商
- ASML
- 影响评分
- 20 / 100,低影响
ASML坚持使用激光产生等离子体(LPP)技术,计划将EUV光源功率提升至1000W。尽管马斯克支持的FEL技术被看好,但ASML认为现有激光技术已足够。
EUV光刻机长期产能规划,短期现货价格影响中性。
已经到底了