Intel导入高NA EUV,18A部分层应用
Intel开始量产高NA EUV光刻设备,并应用于Intel 18A工艺的部分层。该设备由ASML制造,标志着先进制程技术的重要突破。
利多
ASML高端光刻设备出货预期及Intel先进制程产能爬坡进度。
- 相关厂商
- Intel、ASML
- 影响评分
- 25 / 100,低影响
Intel开始量产高NA EUV光刻设备,并应用于Intel 18A工艺的部分层。该设备由ASML制造,标志着先进制程技术的重要突破。
ASML高端光刻设备出货预期及Intel先进制程产能爬坡进度。
IBM宣布0.7纳米(7埃)节点及Nanostack架构,集成近1000亿晶体管。相比2纳米节点,性能提升最高50%,能效提升最高70%,预计5年后量产。
属长期研发里程碑,对当前供应链无即时影响。
已经到底了