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Intel导入高NA EUV，18A部分层应用
Intel开始量产高NA EUV光刻设备，并应用于Intel 18A工艺的部分层。该设备由ASML制造，标志着先进制程技术的重要突破。利多ASML高端光刻设备出货预期及Intel先进制程产能爬坡进度。
EUV Lithography EquipmentIntel 18A Process
high-NA EUVIntel 18AproductionASML
来源：EE Times Japan · 2026/7/15 · 查看原始来源
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