三星2nm良率爬坡超预期,泰勒厂2026年底流片
三星高管表示其2nm制程良率爬坡进展好于预期,泰勒晶圆厂预计2026年底完成首批流片。公司重申2026年HBM销售额较2025年增长三倍、市占超30%的目标。
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此为长期技术路线与产能规划,对当前组件供应及价格无直接影响。
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三星高管表示其2nm制程良率爬坡进展好于预期,泰勒晶圆厂预计2026年底完成首批流片。公司重申2026年HBM销售额较2025年增长三倍、市占超30%的目标。
此为长期技术路线与产能规划,对当前组件供应及价格无直接影响。
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