三星2nm良率爬坡超预期，泰勒厂2026年底流片

三星高管表示其2nm制程良率爬坡进展好于预期，泰勒晶圆厂预计2026年底完成首批流片。公司重申2026年HBM销售额较2025年增长三倍、市占超30%的目标。中性：此为长期技术路线与产能规划，对当前组件供应及价格无直接影响。

来源：IT Home · 2026/3/8 · 查看原始来源