英特尔 18A 制程实测:GAA 间距 76nm,良率爬坡中
英特尔 Panther Lake 芯片实测显示其 18A 制程 HP 库的 M0 间距为 36nm,GAA 间距为 76nm,且背面供电技术仅用于逻辑芯片。报告指出该制程良率仍在爬坡,且 SRAM 因技术限制暂无法采用背面供电。
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此为制程技术细节披露,对当前元器件供应、价格及产能无直接影响。
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英特尔 Panther Lake 芯片实测显示其 18A 制程 HP 库的 M0 间距为 36nm,GAA 间距为 76nm,且背面供电技术仅用于逻辑芯片。报告指出该制程良率仍在爬坡,且 SRAM 因技术限制暂无法采用背面供电。
此为制程技术细节披露,对当前元器件供应、价格及产能无直接影响。
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