SÜSS MicroTec发布300mm纳米压印光刻机
SÜSS MicroTec在SEMICON Europa推出支持300mm晶圆的MA12 Gen3光刻对准设备。该设备集成了光刻、纳米压印和晶圆级堆叠技术。
中性
此为半导体制造设备新品发布,对电子元件的现货供应、需求及价格无直接影响。
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SÜSS MicroTec在SEMICON Europa推出支持300mm晶圆的MA12 Gen3光刻对准设备。该设备集成了光刻、纳米压印和晶圆级堆叠技术。
此为半导体制造设备新品发布,对电子元件的现货供应、需求及价格无直接影响。
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