NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分：10/100
SÜSS MicroTec发布300mm纳米压印光刻机
SÜSS MicroTec在SEMICON Europa推出支持300mm晶圆的MA12 Gen3光刻对准设备。该设备集成了光刻、纳米压印和晶圆级堆叠技术。中性：此为半导体制造设备新品发布，对电子元件的现货供应、需求及价格无直接影响。
equipmentlithography
来源：Semiconductor Today · 2022/11/17 · 查看原始来源
查看 NuAxi 完整情报 →
实时定价、供应信号与 AI 分析，为半导体贸易商而生