TSMC熊本第2工場3nm生產計畫獲日本經產省認定,量产开始时点为28年
据来源,日本经济产业省(経産省)已对TSMC熊本第2工場的3nm生产计划作出认定。来源正文(文字部分出现乱码)中可辨识的信息包括TSMC、3nm以及年份字样'28',结合标题与可读片段,涉及该计划的量产开始时点为28年(原文仅给出年份数字,未给出完整公历年月日)。认定属于行政审批行为,获认定并不代表工場已建成、3nm已量产或计划已实施。原文未说明原因。
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据来源,日本经济产业省(経産省)已对TSMC熊本第2工場的3nm生产计划作出认定。来源正文(文字部分出现乱码)中可辨识的信息包括TSMC、3nm以及年份字样'28',结合标题与可读片段,涉及该计划的量产开始时点为28年(原文仅给出年份数字,未给出完整公历年月日)。认定属于行政审批行为,获认定并不代表工場已建成、3nm已量产或计划已实施。原文未说明原因。
日本经济产业省(METI)于10月16日批准台积电(TSMC)修改后的计划,在其位于九州岛熊本县的第二座晶圆厂生产3纳米逻辑芯片。3纳米是目前最先进的商用芯片制程之一。该计划取代了2024年2月获批的6纳米和12纳米生产计划。原文未说明投产时间及产量等细节。
据路透社援引消息人士报道,SK海力士正寻求美国政府批准,通过其美国子公司Solidigm在大连NAND闪存工厂的未使用空间(2023年完工但因存储市场低迷而设备安装未完成的Mod B区域)加装额外设备以扩大在中国生产,作为在美国投资建厂的筹资条件,扩建业务将用于资助一座新的美国NAND制造工厂;Solidigm还考虑最早明年进行首次公开募股以筹集额外资金。但SK海力士对路透社表示,大连Mod B的设备安装是在与美国政府协商并获其授权下进行的,公司并非寻求扩大Mod B产能,Solidigm拒绝置评。背景方面:2025年9月,美国商务部撤销了允许SK海力士和三星在中国设施无需个别出口许可证即可获得美国芯片制造设备的特别授权,称将继续允许维持现有运营所需的设备出货,但不打算批准用于产能扩张或技术升级的出口;2025年12月,据韩联社报道,华盛顿为三星和SK海力士中国设施2026年的美国芯片制造设备出货授予年度批准,但据路透社报道,针对大连工厂的授权限制了设备数量,且2027年额外美国设备与技术的批准尚未签发。据The Bell报道,随着NAND厂商增加堆叠层数,先进蚀刻设备的获取尤为重要,使用较旧的工具可能需要额外加工步骤,降低生产率并提高制造成本;据路透社报道,大连NAND工厂使用来自Lam Research、应用材料和KLA等美国主要供应商的设备。
美国FCC宣布禁售新上市中文人形机器人及连接电源逆变器,Unitree与Sungrow首当其冲。该措施旨在防止中国主导AI基础设施供应链,预计非中国供应商将获豁免。
Unitree与Sungrow,利好非中国竞争对手。
三星与SK海力士正减少对Mattson等中国设备商的采购份额,转向美日韩供应商。此举主要源于美国实体清单潜在风险及对中国供应链的依赖担忧,类似TSMC已排除华设。
全球设备巨头如应用材料、ASML等将受益于需求转移。
华为轮值董事长徐直军称美国出口管制推动中国半导体产业加速发展,催生LogicFolding芯片架构。美国对Nvidia及AMD芯片的禁令迫使企业转向国产替代方案。
国产芯片产业链,短期无具体价格数据,长期利好国内半导体自主化进程。
Innoscience获美国ITC终裁,确认其当前GaN器件不侵犯Infineon专利,美国出货不受限。裁决仅认定旧款产品侵权且已停产,不影响现有商业供应。
消除了进口禁令风险,保障了Innoscience GaN产品在美国及全球市场的供应连续性。
台湾法院依据《国家安全法》判处一名前台积电工程师10年徒刑,并对东京电子罚款150万新台币(约460万美元)。这是该法首次对企业进行处罚,标志着对半导体供应链知识产权侵权的法律风险升级。
此为法律判例,对元件供应、价格或产能无直接即时影响。
东京电子因涉及台积电商业机密案被台湾法院罚款1.5亿新台币,其前中国区高管因关联中国本土设备初创公司而离职。事件凸显在华外企面临的法律与供应链风险加剧。
可能引发对中国半导体设备供应链的审查与摩擦,但对设备价格及供应暂无直接影响。
日本批准向芯片制造商Rapidus追加40亿美元补贴,使其截至2027年3月的政府总注资达163亿美元。此举旨在加速其AI芯片制造及2027年2纳米量产目标,但该公司仍远落后于台积电并受中东冲突导致的成本上升影响。
此为长期政策驱动的产能扩张,可能改变未来先进逻辑芯片供应格局,但对近期交易无直接影响。
美国议员提出MATCH法案,要求盟国在150天内对华实施DUV浸没式光刻和深紫外刻蚀工具的出口管制。该法案将ASML在中国的份额预计从2025年的33%降至2026年的20%。
全球设备供应商,利空中国先进节点产能。
美国两党议员提出《MATCH法案》,拟对华为、中芯国际等五家中国核心半导体企业实施近乎全面的先进晶圆制造设备出口禁令,覆盖DUV光刻机与刻蚀机。该法案旨在改变现行许可逻辑,从针对具体晶圆厂转为针对企业主体,并封堵中间商与设备维护漏洞。
法案若落地,将切断中国成熟制程产线的关键设备稳定供应,对全球半导体供应链构成重大潜在干扰。
美国两党参议员提出《MATCH法案》,拟对中芯国际、长江存储等五家中国核心半导体企业实施近乎全面的先进晶圆制造设备出口禁令。法案旨在改变现行许可审批逻辑,从管制具体晶圆厂转为管制企业主体,并覆盖设备全生命周期交易与维护。
若法案落地,将切断相关企业获取及维护成熟制程关键设备的稳定渠道,长期影响其产能维持与升级,加剧供应链不确定性。
美国两党议员提出法案,拟全面禁止向中芯国际、长江存储等中国主要芯片制造商出口DUV光刻与刻蚀设备。该提案将管制对象从具体晶圆厂转移至公司实体,旨在切断中国厂商获取14nm及以下先进制程设备的能力。
此举将实质性收紧中国芯片制造设备的供应,加剧短缺风险,利好设备商。
中国计划2030年实现80%芯片自给率,目标包括7nm产线建设与14nm稳定生产。尽管2024年自给率仅33%,但成熟制程产能占比预计将从25%升至42%。
成熟制程产能扩张带来的潜在供过于求风险。
美国官员指控中芯国际在过去一年内向伊朗军方提供芯片制造设备与技术培训。中芯国际自2020年起已被列入美国贸易黑名单,此举将加剧其合规风险。
事件显著提升美国对中芯国际实施进一步制裁或收紧设备出口管制的可能性,影响其供应链稳定。
GlobalFoundries起诉Tower半导体侵犯11项专利,并寻求利润赔偿及进口禁令。此次法律战针对Tower在射频芯片和硅光子学等成熟节点的技术。
潜在进口禁令可能引发Tower供应链中断,需警惕其客户面临的产品供应风险。
台积电前资深副总涉嫌携带2纳米以下制程技术资料赴美任职英特尔,引发台湾法务部提议修订国安法以填补法律漏洞。此案被当局定性为涉及核心国家技术外泄。
此举预示对关键技术人才流动与输出的监管将趋严,可能影响相关企业的技术合作与供应链布局。
爆款新品里,到底装了谁的芯片?拆开,一颗一颗给你看。
全部拆解| Analog | $0.68 | −5.9% |
|---|---|---|
| 连接器 | $0.75 | +0.2% |
| CPU | $386.74 | −21.3% |
| DDR4 | $88.40 | −0.2% |
| DDR52026-W13 | $14.89 | −11.2% |
| GPU | $478.20 | +8.2% |
| MCU | $0.68 | −61.7%异常波动 |
| MLCC | $0.01 | +54.0%异常波动 |
| MOSFET | $0.12 | −82.8%异常波动 |
| PMIC2026-W13 | $0.44 | −12.5% |
| SSD/HDD | $288.43 | 暂无 |