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美拟禁DUV光刻机对华出口，ASML份额降至20%
美国议员提出MATCH法案，要求盟国在150天内对华实施DUV浸没式光刻和深紫外刻蚀工具的出口管制。该法案将ASML在中国的份额预计从2025年的33%降至2026年的20%。利多全球设备供应商，利空中国先进节点产能。
DUV Lithography SystemsCryogenic Etching ToolsSemiconductor Manufacturing Equipment
export-controlsupply-shortagepolicyASML
2026/4/8
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