群联电子发布aiDAPTIV技术,利用其Pascari SSD作为新内存层级,扩展本地AI推理工作负载的可用内存。此举为应对AI模型内存约束的技术展示,旨在提升固定硬件配置下的效率。中性:此为系统级软件/控制器方案发布,对NAND Flash供需及价格无直接影响。
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群联电子发布aiDAPTIV技术,利用其Pascari SSD作为新内存层级,扩展本地AI推理工作负载的可用内存。此举为应对AI模型内存约束的技术展示,旨在提升固定硬件配置下的效率。中性:此为系统级软件/控制器方案发布,对NAND Flash供需及价格无直接影响。
泛林集团CFO预测DRAM将从4F²架构演进至3D堆叠结构,以突破物理微缩极限。该转型预计将使半导体设备可服务市场规模扩大1.7-1.8倍,并需要TSV蚀刻等新工艺。中性:此为长期设备需求催化剂,但对当前DRAM组件供应及价格无直接影响。
三星与英伟达联合推出AI模型PINO,将铁电NAND性能分析速度提升1万倍,目标在2030年实现1000层堆叠。此举旨在解决铁电材料商业化中的复杂特性与结构优化难题。中性:此为长期(2030年)研发里程碑,对当前NAND现货供应、价格及交易决策无直接影响。
应用材料与美光宣布深化研发合作,共同开发下一代DRAM、HBM及NAND技术。合作旨在提升AI系统的能效表现。中性:此为长期研发进展,对当前供应链、需求及价格无直接影响。
应用材料与美光宣布在应用材料耗资50亿美元的EPIC研发中心合作开发面向AI的下一代DRAM、HBM与NAND技术。此举旨在通过设备商与芯片制造商紧密合作,加速从早期研发到大规模制造的进程。利空/利多/关注: 中性,此为长期研发合作,未宣布具体的产能、良率或出货时间表,对近期内存现货市场供需与价格无直接影响。
应用材料与美光宣布在EPIC中心合作研发面向AI的下一代DRAM、HBM及NAND技术。此举旨在加速材料工程创新,强化美国半导体创新链。中性:此为长期研发合作,对现有组件的供应、需求及价格无直接影响。
三和涂料工业与三星SDI联合开发的高性能熔融母料已开始量产交付,并应用于新款移动设备AP封装。该材料旨在提升封装均匀性、抗翘曲及散热性能,未来计划扩展至AI服务器DRAM与NAND。中性:此为长期技术进展,对现有电子元件供需及价格无直接影响。
业界拟将HBM高度限制放宽至800µm以容纳20层堆叠。此举旨在降低晶圆减薄风险,但混合键合导入恐延后。关注: 混合键合延后或影响下一代HBM密度量产节奏。
韩国学界指出NAND闪存架构趋近物理极限,技术迭代依赖堆叠层数增加,可能缩小与中国制造商的差距。此观点基于对技术演进路径的长期分析,未涉及具体产能、库存或价格数据。关注:技术追赶风险可能影响远期竞争格局,但对当前交易无直接价格影响。
Weebit Nano的ReRAM技术被选入韩国政府资助的存内计算项目,目标能效约200 TOPS/W。该联盟由DB HiTek负责制造,旨在开发面向AI应用的大规模硅验证模块。中性:此为长期研发里程碑,对当前元器件供应、价格及交易决策无直接影响。
三星在ISSCC 2026上展示了采用垂直晶体管与晶圆键合技术的4F² DRAM原型。该架构旨在将单元面积缩小约30%,以突破传统微缩极限。中性:此为远期研发进展,对当前DRAM的供应、需求及现货价格无直接影响。
SK海力士与西部数据旗下闪迪正合作推动下一代内存HBF技术的全球标准化。该技术旨在填补HBM高性能与SSD高容量之间的空白。利空/利多/关注: 此为长期研发与标准制定,对当前内存现货供应、价格及采购决策无直接影响。
JEDEC发布UFS 5.0标准,顺序读写速度最高达10.8 GB/s,针对边缘AI应用。新标准保持与UFS 4.x硬件兼容,并强调提升信号与电源完整性。中性:此为长期技术标准更新,对当前元件供应、价格及交易决策无直接影响。
北京大学团队研发出1nm栅长铁电晶体管,工作电压0.6V,能耗0.45 fJ/μm。该技术旨在解决后摩尔时代存储墙瓶颈,为存算一体AI芯片提供器件支持。利空/利空/关注: 此为实验室阶段研究突破,对当前半导体供应链、库存及现货价格无直接影响。
ASML开发出1000W光源,目标在2030年前将高数值孔径EUV设备产能从220片/时提升至330片/时。铠侠正在对面向设备端AI智能手机的UFS 5.0 NAND进行送样。利多:光刻与存储领域长期研发进展,但对交易员无即时供应或价格影响。
JEDEC正式发布UFS 5.0标准,顺序读写速度达10.8GB/s。铠侠已开始向客户提供符合新标准的闪存产品样品。中性:此为远期技术标准发布,对当前UFS存储芯片的供应、需求及现货价格无直接影响。
SK海力士与西部数据旗下闪迪宣布成立联盟,在开放计算项目下启动高带宽闪存标准化工作。此举旨在融合NAND存储容量与HBM性能,以满足未来AI推理对效率的需求,预计2030年左右商业化。利空/利多/关注: 中性。此为远期技术路线图,对当前存储芯片供需及现货价格无直接影响。
闪存技术正从eMMC向UFS迁移。随着对速度、可扩展性和效率的需求上升。关注技术演进趋势。
JEDEC发布UFS 5.0及UFSHCI 5.0标准,旨在提升移动及汽车应用的性能与能效。此为行业标准组织的常规技术规范更新,不涉及任何具体厂商的产能、供应或价格变动。中性:此为长期技术演进,对现货交易无直接影响。
SK海力士与Sandisk宣布在开放计算项目下启动下一代高带宽闪存标准化工作。该技术定位于HBM与SSD之间,旨在为AI推理负载优化容量与能效。中性:此为长期技术路线与生态合作,对当前存储芯片供应、价格及交易无直接影响。