APS技术宣称可绕开EUV实现3nm图形化
AlixLabs的APS技术已与英特尔和联电合作演示,宣称可在无需EUV光刻下实现3nm级图形化,单层掩模成本或降低40%。该技术旨在为先进制程提供一种成本更低的替代性图形化路径,但仍处于研发与设备验证阶段。
中性
此为远期技术路线探索,对当前晶圆产能、价格及采购决策无直接影响。
- Related manufacturers
- Intel, United Microelectronics Corporation, ASML
- Impact score
- 10 / 100, low impact