NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分：10/100
ASML EUV光源功率突破1000瓦
ASML将EUV光源功率从600瓦提升至1000瓦，预计2030年前可提升芯片产量多达50%。该技术突破旨在提高先进逻辑芯片制造的吞吐量与成本效率。中性：此为长期研发里程碑，对当前供应链、需求及价格无直接影响。
EUV Lithography Equipment
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来源：华尔街见闻 · 2026/2/23 · 查看原始来源
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