NuAxi半导体贸易情报
ASML EUV光源功率突破1000瓦，2030年产能或增50%
发生了什么
ASML公布EUV光源功率可从600瓦提升至1000瓦，预计2030年晶圆处理量增至每小时330片。该技术旨在通过提升光刻机效率来降低单颗芯片制造成本。中性：此为远期研发路线图，对当前供应链及现货价格无直接影响。
影响与信号
低影响影响力评分：10/100
受影响器件与厂商
EUV光刻机
R&Dtechnologycapacity-efficiency
来源与时间
来源：IT Home · 2026/2/23 · 查看原始来源
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