清溢光电拟投不超15亿元建三期，产品覆盖28至14纳米掩膜版，三期尚需履行备案、环评等审批手续，半导体基地仍处产能爬坡阶段

发生了什么

11月9日晚间，清溢光电（688138.SH）公告，控股子公司佛山清溢微电子有限公司拟在现有一期、二期基础上建设高端半导体掩膜版生产基地三期，计划总投资额不超过15亿元，主要产品为覆盖28nm至14nm制程的高端半导体掩膜版。佛山基地一期已投产，二期正在推进，三期尚需履行项目备案、环境影响评价等审批手续。此次仅三期投资上限就达15亿元，相当于公司2024年9月披露的原三期规划6亿元的2.5倍，但当时三期尚无具体实施方案。此前一期主要覆盖250nm至65nm制程，三期则瞄准28nm至14nm；规划覆盖相关制程并不意味着公司已具备批量生产能力。业绩方面，2026年上半年清溢光电营业收入6.54亿元，平板显示掩膜版收入5.28亿元（同比增长7.42%，占比超80%），半导体芯片掩膜版收入约1.01亿元（同比增长0.95%）；2026年前三季度营业收入9.74亿元（同比增长4.90%），归母净利润1.60亿元（同比增长11.02%），但第三季度单季归母净利润4163.84万元，同比下降19.47%。截至2026年9月末，固定资产27.33亿元（较2025年末增长113.02%），货币资金约5.09亿元，归母净资产约28.72亿元，三期投资上限相当于期末归母净资产的52%左右。55nmBinary掩膜版已通过客户验证，55nmPSM相移掩膜版2026年9月已获客户采购订单并完成交货、进入上线认证阶段，但公司提示客户认证周期及结果存在不确定性，尚不能确定何时能实现规模化供货。半导体掩膜版基地仍处产能爬坡阶段。该投资计划属于规划，尚未建成投产。

影响与信号

受影响器件与厂商

来源与时间

来源：格隆汇·半导体 · 2026/11/9 · 查看原始来源