苹果开发下一代OLED用HMO技术，成膜优先考虑溅射工艺，最终量产方案尚未敲定，三星显示与LG显示并行推进溅射与ALD两条路线

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快科技11月3日消息：苹果正在开发用于下一代OLED面板的高迁移率氧化物（HMO）技术，成膜方式目前优先考虑溅射工艺，最终量产方案尚未敲定。三星显示与LG显示两家面板厂都在同时推进溅射与原子层沉积（ALD）两条路线。从技术特性看，ALD在薄膜精度和特性控制上更有优势但设备和材料成本偏高；溅射可直接沿用现有OLED产线设备，成本压力小得多，苹果因此更倾向于先评估溅射方案的可行性。HMO被视为未来MacBook、iMac等高分IT用OLED的候选技术；现有氧化物TFT电子迁移率在10㎠/Vs上下，HMO目标是30至50㎠/Vs，迁移率越高越有利于实现高分辨率和高刷新率，但难点在于成品面板经多道制程、温度与光照后仍需维持该特性。目前高端OLED普遍采用硅与氧化物半导体混用的LTPO，若HMO性能足够高，部分硅工序可被氧化物替代，制程简化、生产成本下降。苹果先在其台湾研发设施内评估相关技术，随后请三星显示确认能否应用于第8代级别的大面积产线，三星显示的重点是确认苹果要求的电子迁移率和可靠性能否在大尺寸基板上同样成立。LG显示在第6代中小尺寸OLED产线上开发溅射HMO并同步研究ALD，去年该公司用ALD制备的氧化物TFT实现了约40㎠/Vs的电子迁移率并展示了对应OLED试制品，但考虑新增设备投资负担，同样更看重复用现有溅射设备的方案。一位业内人士表示，两家公司都以溅射为优先、同时研究ALD，ALD性能优势已在研究阶段得到验证，但出于成本考虑似乎还在溅射上做更多试验。

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来源：快科技 · 2026/11/3 · 查看原始来源