中国修订IC布图设计保护条例,2026年实施
中国国务院修订集成电路布图设计保护条例,将于2026年10月15日生效。此次修订是自2001年规则发布以来首次全面更新,新增光子与量子IC设计保护,并提高侵权赔偿。
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政策长期利好国内IC设计企业知识产权安全,但短期对供应链价格无直接影响。
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中国国务院修订集成电路布图设计保护条例,将于2026年10月15日生效。此次修订是自2001年规则发布以来首次全面更新,新增光子与量子IC设计保护,并提高侵权赔偿。
政策长期利好国内IC设计企业知识产权安全,但短期对供应链价格无直接影响。
报道提及对深紫外(DUV)光刻设备的限制进一步收紧,可能影响先进芯片制造。此举是持续的地缘政治紧张局势影响半导体工具出口的一部分。
关键制造工具供应受限,可能导致非最先进制程芯片的交货期延长和成本上升。
欧洲八家大型集成光子企业CEO向欧盟委员会提交了构建本土PIC弹性供应链的计划。此举旨在应对地缘风险,减少对外部供应链的依赖。
此为长期政策倡议,未宣布具体产能、资金或管制措施,对当前光子元件交易价格无直接影响。
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