ASML EUV出货2026年增至60台,过半用于内存
ASML计划2026年出货超60台EUV光刻机,较2025年增长25%,其中51%用于内存生产。此扩张由SK海力士和三星等内存制造商对HBM及DDR技术的强劲需求驱动,以满足全球AI数据中心需求。
利多
EUV产能扩张印证先进内存需求持续强劲,对HBM/DDR等组件价格构成支撑。
- 相关厂商
- SK hynix、Samsung Electronics
- 影响评分
- 60 / 100,中等影响
ASML计划2026年出货超60台EUV光刻机,较2025年增长25%,其中51%用于内存生产。此扩张由SK海力士和三星等内存制造商对HBM及DDR技术的强劲需求驱动,以满足全球AI数据中心需求。
EUV产能扩张印证先进内存需求持续强劲,对HBM/DDR等组件价格构成支撑。
三星、SK海力士和美光预计存储芯片短缺将持续至2028年底,随后供需恢复平衡。基于此预测,制造商正重新评估是否在现有ASML光刻机订单基础上进一步扩产。
远期产能扩张计划预示2028年后存在供应过剩风险,对长期价格构成压力。
已经到底了