Keysight联合格拉斯哥大学、NPL与MPI实现InP HEMT从近DC到250 GHz单次扫频在片表征
Keysight Technologies、格拉斯哥大学、英国国家物理实验室（NPL）与MPI Corporation共同开发了一种针对下一代亚太赫兹（sub-THz）半导体器件的宽带表征新方法。四家机构联合演示了对磷化铟高电子迁移率晶体管（InP HEMT）从近DC到250 GHz的单次扫频连续在片表征，简化了先进半导体研究与设计中的宽带测量。该方案整合了Keysight的PNA-X矢量网络分析仪、单次扫频250 GHz频率扩展器和精密源/测量单元（SMU）、格拉斯哥大学的InP HEMT器件与在片校准标准件、MPI Corporation的宽带在片探针技术与校准软件，以及NPL的高频计量与校准方法，实现了单次探针触点下从近DC到250 GHz的连续测量，免去了多次更换设置的需求，并通过内置源滤波与宽带源功率校准保障探针尖处毫米波信号的纯度。这是测量技术层面的合作演示，属于研究与设计背景信息，与价格、产能或政策无关。
- Related manufacturers
- Keysight Technologies, University of Glasgow, National Physical Laboratory (NPL), MPI Corporation
- Impact score
- 25 / 100, low impact