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中国集成电路用正性光刻胶市场深度分析：产品细分、应用需求与主要企业竞争格局

QYResearch发布的报告显示，中国集成电路用正性光刻胶市场2026-2032年预计年复合增长率为5.6%，主要厂商包括Merck KGaA、Tokyo Ohka Kogyo、JSR Corporation、Shin-Etsu Chemical、Fujifilm、Niopik、DuPont、Chimei、Sumitomo Chemical、荣大感光科技、彤程新材、艾森半导体材料，产品类型包括紫外光刻胶、深紫外光刻胶、极紫外光刻胶、电子束光刻胶、其他。