NuAxi半导体贸易情报
Fujifilm Electronic Materials计划在韩国扩大EUV光刻胶与CMP研磨液产能以应对AI芯片需求
发生了什么
Fujifilm Electronic Materials 计划扩大其在韩国的先进半导体材料产能，具体包括在平泽增加极紫外（EUV）光刻胶产能，并在天安扩大化学机械抛光（CMP）研磨液的生产。该投资将深化对包括三星电子在内客户的本地支持，原文将此背景归于AI与先进制程需求的增长。此项扩产为计划状态，原文未给出具体投资金额或时间表。
影响与信号
中影响影响力评分：60/100
受影响器件与厂商
extreme ultraviolet (EUV) photoresistchemical mechanical polishing (CMP) slurry
Fujifilm Electronic Materials
EUV photoresistCMP slurrySouth KoreaPyeongtaekCheonancapacity expansion
来源与时间
来源：DigiTimes Asia · 2026/10/26 · 查看原始来源
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