NuAxi半导体贸易情报
研究显示Pt-W合金有潜力用于更薄的高数值孔径（High-NA）EUV掩模吸收层（中国科学院等）
发生了什么
中国科学院、吉林大学、光学系统先进制造技术国家重点实验室及中国科学院大学的研究人员发表了一篇题为《Evaluating an alternative Pt-W alloy as a low-n EUV mask absorber: Film properties and imaging performance》的技术论文，研究将替代性Pt-W合金用作低n值EUV掩模吸收层，评估其薄膜特性与成像性能。该论文显示Pt-W合金在更薄的高数值孔径（High-NA）EUV掩模吸收层方面具有潜力。此为研究阶段成果，原文未说明任何商业化或量产安排，也未说明原因。
影响与信号
低影响影响力评分：20/100
受影响器件与厂商
Pt-W alloy EUV mask absorber
Chinese Academy of SciencesJilin UniversityState Key Laboratory of Advanced Manufacturing for Optical SystemsUniversity of Chinese Academy of Sciences
EUVmask absorberPt-W alloyresearch paperHigh-NA
来源与时间
来源：Semiconductor Engineering · 2026/10/25 · 查看原始来源
查看 NuAxi 完整情报 →
实时定价、供应信号与 AI 分析，为半导体贸易商而生