NuAxi半导体贸易情报
ASML High-NA EUV光刻机交付imec研发中心
发生了什么
ASML最先进的High-NA EUV光刻机EXE:5200已交付比利时微电子研究中心imec。该设备全球首批出货量不足十台，主要客户为英特尔、三星和SK海力士等尖端芯片制造商。中性：此为长期研发里程碑，对当前元器件供应、价格及交易决策无直接影响。
影响与信号
低影响影响力评分：10/100
受影响器件与厂商
EUV Lithography
ASMLimec
R&Dequipment
来源与时间
来源：TrendForce Official (Market Data) · 2026/3/19 · 查看原始来源
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