Sungrow采用onsemi SiC功率模块技术,逆变器级效率提升0.4%
电池储能供应商Sungrow正在采用onsemi的SiC功率模块技术,以实现逆变器级效率提升0.4%。来源标题称该技术将公用事业级电池储能效率提升至99%以上。原文未说明除效率提升之外的其他原因或条件。
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电池储能供应商Sungrow正在采用onsemi的SiC功率模块技术,以实现逆变器级效率提升0.4%。来源标题称该技术将公用事业级电池储能效率提升至99%以上。原文未说明除效率提升之外的其他原因或条件。
ASML与Xanadu宣布开展合作,研究先进光刻工艺能否抑制光子量子计算中最关键的工程限制之一——光子损耗。双方将针对Xanadu的光子量子硬件研究先进光刻工艺,重点考察更严格的图形化控制能否抑制损耗机制并改善容错、实用规模机器的前景。该合作计划特别将光学损耗与线边缘粗糙度(LER)联系起来:光刻定义波导及其他纳米光子结构的横向边界,实际边缘中的纳米级偏差会扰动波导折射率边界,将导光耦合到辐射模式或产生背散射,导致传播损耗。ASML贡献光刻成像、工艺窗口、计量和计算校正方面的专长,Xanadu贡献器件需求、光子电路设计和量子级性能数据。原文明确指出:该合作并不意味着ASML在制造量子计算机,公告也未指定生产节点、工具平台或数值损耗目标;这是一项研究工作,旨在理解哪些光刻手段可以制造更低损耗的光子结构,近期成果是工艺知识而非成品容错机器。成功还将取决于封装、光纤到芯片耦合、探测器效率和光源质量,这些仅靠光刻无法解决。
据THE ELEC 10月20日获取的信息,马斯克的特斯拉与SpaceX正在与韩国半导体材料、零部件及设备供应商洽谈,为其Terafab芯片制造项目构建供应链。多家公司已签署保密协议(NDA)并进入具体产品讨论。10月13日展览开幕当天上午,Terafab代表在旧金山举行的SEMICON West 2026(10月13日至15日)参观了约10家韩国公司的展位,包括ENF Technology、Dongjin Semichem、Asflow、BMT、GnG Intech、Unisem、MiCo和Hanmi Semiconductor;与许多公司的洽谈已进行数月。其中ENF Technology、Asflow和GnG Intech为首次接触;BMT洽谈阀门和流体处理部件;KoMiCo约一个月前与特斯拉和SpaceX签署三方NDA,讨论得州研发中试线的清洗服务;Unisem已签NDA讨论洗涤塔等环保设备;Dongjin Semichem与特斯拉洽谈两三个月,围绕其得州 thinner工厂,磷酸等材料也在讨论中;Hanmi Semiconductor正讨论向Terafab供应TC键合机;HPSP已同意为Terafab研发线供应一台高压氢退火(HPA)系统;ISC已进入样品和研发设计信息交换阶段。海外方面,Fujifilm定期与Terafab采购团队就CMP浆料、光刻胶、蚀刻剂和清洗化学品举行会议;Lam Research和Applied Materials据称已建立专门的Terafab团队。特斯拉和SpaceX不与中国供应商开展业务,业界人士称其寻求甚至低于中国供应商的价格,韩国因此成为优选。Terafab项目于3月由特斯拉、SpaceX和xAI宣布共同推进,目标是在10年内建成月处理100万片晶圆的工厂,初始投资估计为168亿美元,预计创造3000多个岗位;SpaceX本月初与得州签署税收减免协议并已开工建设,业界预期首期月产能10万片晶圆的设施在2030年前建成。上述供应合作多数仍处于洽谈阶段,尚未确认为最终供货。
Gaonchips于10月19日表示,将参与为韩国航空工业(KAI)运营的下一代无人系统开发人工智能(AI)半导体。该项目为KAI主导的空中无人平台项目,隶属于产业通商资源部(MOTIR)支持的K-On-Device AI半导体技术开发项目,Supergate为首席开发商。项目目标是开发一款作为下一代消耗型无人机“大脑”的AI片上系统(SoC),通过在设备端处理使无人机即使在通信中断或受限的环境下也能运行AI并独立执行任务。Gaonchips将使用三星电子的8纳米代工工艺实现自主研发的神经处理单元(NPU)和雷达信号处理技术,并负责整个芯片的物理设计和最终设计验证;KAI负责无人平台的系统集成与验证,Supergate主导AI芯片架构设计和软件开发。Gaonchips曾开发并量产5nm端侧AI半导体,并参与面向日本客户的2nm GAA工艺及2.5D封装AI加速器设计项目。
据西门子于2026年10月14日宣布,其与英伟达推进合作,将英伟达cuLitho库与西门子Calibre制造软件集成,旨在使复杂的光掩模优化在全芯片规模上切实可行。据西门子称,该集成可使全芯片光学校近校正(OPC)工作负载速度提升至多12倍;西门子另引用针对选定工作负载至少10倍至17倍的仿真加速。这些测量针对特定计算任务,并不等同于整个芯片制造流程的等效加速,也不保证对每个客户配置都有相同改进。开发动因是工程师设计的图形不会自动精确印到硅片上:在极小尺寸下,衍射等物理效应会扭曲投影图像,而计算光刻可预测这些效应并调整光掩模几何形状。西门子将转向高数值孔径极紫外光刻(High-NA EUV)视为一大挑战。西门子还表示,加速可将漫长的周转时间从数周缩短至数天,并可能降低能耗和计算基础设施占用;其意义取决于在扩大有用优化规模的同时保持精度。
西班牙半导体计量初创公司Wooptix正加快努力进入领先半导体代工厂的供应链,其技术起源于天文观测领域。该公司瞄准领先芯片制造商的晶圆计量技术,并期望在3-5年内实现生产采用。原文未说明原因,且该进展仍处于计划阶段,尚未实现量产采用。
英飞凌根据一项扩大并延长的长期供应协议,从Wolfspeed获得8英寸碳化硅(SiC)晶圆供应。该协议使这家德国芯片制造商为其SiC晶圆厂转换所需的更大尺寸衬底获得了另一个供应来源;对这家美国材料供应商而言,该协议意味着一家顶级客户在其财务重组约一年后作出的采购承诺。
据Seoul Economic Daily报道(ZDNet曾在9月报道三星为定制HBM采取双轨策略,同时利用自家代工和竞争对手台积电),NVIDIA已要求三星、SK hynix和美光在其于8月发布的NVHBM基底层中采用台积电3nm工艺。据称三星设备解决方案(DS)部门经内部评估后同意了这一要求。报道给出的原因是:NVIDIA推动供应商间生产标准化以确保HBM性能一致并简化产品验证;此外行业估计台积电3nm良率超过90%,而三星代工2nm(SF2)工艺良率约为60%。NVHBM的定制基底层集成了传统上由GPU承载的内存控制器;据NVIDIA称,相比标准HBM4E,该技术提供最多30%的更高内存带宽、15%的更低HBM功耗和25%的更多XPU计算裸片面积。该合作并非全新:据Seoul Economic Daily,三星和台积电四年前首次合作以确保HBM与台积电GPU封装工艺兼容,此次是首次延伸至HBM制造。三星仍保留自有代工选项:由于台积电3nm产能面临AI加速器和智能手机芯片的竞争需求,三星正在2nm工艺上验证NVHBM基底层生产,作为台积电产能受限时的潜在替代方案。台积电在10月15日的财报电话会议上提示3nm产能紧张,该节点占第三季度晶圆销售额的33%,为其所有工艺节点中最大份额;据Economic Daily News,董事长兼CEO魏哲家宣布在台南再建一座3nm晶圆厂的计划(叠加亚利桑那、日本熊本和台湾南部科学园区的现有扩建项目),新厂定于2028年上半年开始量产。三星还继续为标准HBM产品线自制基底层:今年早些时候进入量产的HBM4和正在进行生产验证的HBM4E均使用三星代工4nm工艺制造基底层,其核心裸片在其华城和平泽园区的1c DRAM产线上制造;三星计划对供应其他客户(包括AMD)的定制HBM保持基底层turnkey生产方式。
onsemi与Sungrow宣布将onsemi的EliteSiC混合功率模块技术集成到Sungrow的PowerTitan 3.0储能平台,用于电网级储能系统的高功率DC-AC转换。据onsemi称,与上一代平台相比,新架构将逆变器级效率提升0.4个百分点,支持额定功率最高450 kW的功率转换单元,峰值效率超过99.3%。onsemi的分析显示,在100 MW电池储能装置中,0.4%的效率提升每年可节省超过475 MWh电量(与上一代模块相比)。该SiC混合技术结合碳化硅与硅功率器件,采用三级逆变器架构,提供更高功率密度和更好热性能。双方曾在平台开发、系统优化、工程验证和资格认证方面合作,此次采用建立在两家公司既有的战略关系之上。
英飞凌科技与Wolfspeed签署一项多年期协议,以确保200mm碳化硅(SiC)晶圆的供应,支持其向更大直径制造的转变。该协议建立在两家公司20年合作关系的基础上,并将双方现有的晶圆供应安排从150mm衬底转向200mm衬底。
Wolfspeed Inc(美国北卡罗来纳州达勒姆)与英飞凌科技(德国慕尼黑)签署了一项新的多年期协议,将两家公司之间现有的长期碳化硅(SiC)衬底供应安排从150mm直径晶圆过渡到200mm直径晶圆,并扩大和延长了该长期供应协议。原文未说明原因。
Gaonchips于10月15日宣布加入Arm Total Design for Physical AI,成为首家参与该倡议的韩国设计解决方案提供商,作为技术合作伙伴支持Arm-based半导体在物理AI应用中的实施,并将通过硅到系统的合作提供从芯片设计到系统实施的全过程支持。原文未说明原因。
Infineon 和 Wolfspeed 签署了一份多年供应协议,以 200mm SiC 晶圆取代 150mm 晶圆。
根据标题,本文为分析文章,讨论TSMC-GF交易将成熟制程引入AI封装及其对中国的影响。正文指出,随着全球晶圆产能快速扩张,TSMC和GlobalFoundries (GF)正在强调一个服务于先进应用、快速增长的成熟制程市场。具体而言,先进封装中对硅中介层、硅通孔(TSV)和嵌入式深沟槽电容器(eDTC)的需求,正在为成熟制程产能创造一个可观的蓝海市场。正文未说明交易的具体条款、状态或进展细节。
Infineon与Wolfspeed扩大合同,加强8英寸SiC采购。原文未说明原因,正文亦未提供具体时间、数量、金额或其他细节。
据韩国ZDNet援引业内人士,三星电子正考虑为OLED版Galaxy手机的显示驱动芯片(DDI)增加第二家代工供应商,以降低对台湾联电(UMC)的依赖,并可能从2027年底起在部分中低端Galaxy A系列手机中采用格芯(GF)生产的DDI。目前相关芯片由三星系统LSI部门设计、全部交由UMC以22纳米制程代工;三星据称正评估让GF使用22纳米或28纳米制程代工,候选产能涉及新加坡和德国工厂,但具体设计导入、验证及量产安排尚未公布,三星和GF也未正式确认合作,2027年底的时间点仅为业内预计。报道称此调整与存储器需求旺盛带动成熟制程产能吃紧有关:三星7月推出Galaxy Z Fold8后市场需求高于预期,曾要求UMC加急生产,但UMC的22纳米产线已接近满载,三星因此将原定9月Fold8零部件生产计划中的约10%顺延至10月,并据称动用了原本留给下一代产品开发的部分DDI库存。此次调整针对OLED Galaxy手机DDI的晶圆制造,并不意味着三星将把自家芯片设计业务或全部手机处理器转交给GF。
Infineon与Wolfspeed签署了一项多年期协议,由Wolfspeed供应200mm碳化硅(SiC)晶圆,该协议将两家公司现有的供应关系从150mm衬底转向200mm衬底。据Infineon新闻稿,该协议支持Infineon从150mm到200mm SiC制造的转换。Infineon为其全球制造网络(包括位于马来西亚居林的200mm SiC晶圆厂)从多家供应商采购SiC衬底,公司表示这一多源战略旨在确保供应的灵活性和质量。Infineon首席运营官Alexander Gorski表示,该协议进一步扩大了公司用于200mm大批量制造的供应基础,并建立在两家公司20年的供应关系之上。转向更大晶圆主要是成本问题:200mm晶圆比150mm晶圆提供更多可用裸片面积,从而降低单位衬底成本并提高整体制造效率。SiC功率半导体的需求主要来自电动汽车驱动系统、太阳能逆变器和工业电机驱动,Infineon还指出AI数据中心是新兴需求驱动力。两家公司均未披露协议金额或涉及的数量。
Navitas Semiconductor宣布与NVIDIA合作开发一款24 kW、800 VDC转12 VDC的电源传输板(PDB),面向下一代AI数据中心基础设施,基于Navitas的GaNFast技术,支持NVIDIA MGX生态系统,可将电源直接传送给高性能计算处理器(xPU)。该方案计划在2026年OCP全球峰会的NVIDIA AI Factory MGX Wall合作伙伴展示区展出。此板为Navitas此前与NVIDIA合作发布的20 kW、800 V转6 V电源板的后续产品,两者均支持高压直流配电过渡及GaN和SiC技术在AI基础设施中的应用。新板设计目标为最高24 kW输出、满载效率97%、功率密度超过2,000 W/in³,采用NVIDIA 400 mm × 60 mm外形规格,可集成在计算主板靠近xPU处;采用单级转换架构,直接将800 VDC转换为12 VDC,省去常规50 V转12 V中间总线转换器(IBC)级,减少转换步骤、功率损耗和元件数量;12 V输出向VRM供电。初级侧功率级使用16颗NV6034 GaNFast FET(650 V耐压、18 mΩ导通电阻),采用堆叠半桥拓扑和8 mm × 8 mm双冷却DFN封装。
10月15日消息,据中国台湾地区媒体《太报》报道,台积电董事长暨总裁魏哲家今日透露,马斯克将于美国得州启动Terafab超级晶圆厂计划,并希望与台积电合作。魏哲家表示已从亚利桑那派出团队去得州评估,也与客户进行初步沟通;相关细节和原则都在讨论中。他强调,若两家公司启动合作,厂房必须由台积电运营。该合作目前处于评估和讨论阶段,尚未确认落地。背景信息:据IT之家此前报道,马斯克最近公布其对Terafab芯片工厂的愿景,表示特斯拉和SpaceX计划每年在Terafab位于美国得克萨斯州的Giga Texas研究设施制造和测试约10款芯片,以加快开发进程。
GlobalFoundries 已与 TSMC 达成多年制造协议,以扩大其位于纽约 Malta 工厂的硅间隔器产能,供应 TSMC 的 Chip-on-Wafer-on-Substrate (CoWoS) 先进封装生态系统。该协议预计价值为 20 亿美元,为期五年。
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All teardowns| Analog | $0.68 | −5.9% |
|---|---|---|
| Connector | $0.75 | +0.2% |
| CPU | $386.74 | −21.3% |
| DDR4 | $88.40 | −0.2% |
| DDR52026-W13 | $14.89 | −11.2% |
| GPU | $478.20 | +8.2% |
| MCU | $0.68 | −61.7%Unusual |
| MLCC | $0.01 | +54.0%Unusual |
| MOSFET | $0.12 | −82.8%Unusual |
| PMIC2026-W13 | $0.44 | −12.5% |
| SSD/HDD | $288.43 | n/a |