ASML EUV光刻机远期目标：1000W光源+20%产能提升

ASML确认新一代Twinscan NXE EUV光刻机研发进展，目标将光源功率提升50%至1000W，生产效率提升20%至每小时330片晶圆，预计2030年或更晚商用。该技术需突破三脉冲光源、锡滴发生器、杂质收集及光学系统等多重障碍。中性：此为远期技术路线图，对当前组件供应、价格及交易决策无直接影响。

来源：快科技 · 2026/2/24 · 查看原始来源