NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分：10/100
ASML计划2030年EUV功率达1000瓦
ASML计划于2030年推出1000瓦EUV光源系统，处理速度提升50%。该技术需每秒向10万个锡滴发射激光，是EUV光刻技术的重大突破。关注：长期产能规划，短期现货市场无直接影响。
EUV Lithography SystemEUV Light Source
R&DEUVCapacity2030
来源：Tom's Hardware · 2026/2/24 · 查看原始来源
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