NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分：15/100
ASML升级EUV光源，2030年单机产能或增50%
ASML发布EUV光源升级方案，功率从600瓦提升至1000瓦，预计到2030年单机晶圆处理量可从220片/小时增至330片/小时。此举旨在通过技术迭代提升先进制程芯片的生产效率。中性：此为远期产能提升规划，对当前供应链及现货价格无直接影响。
EUV Lithography Systems
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来源：Evertiq · 2026/2/24 · 查看原始来源
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