NuAxi半导体贸易情报
低影响影响力评分：10/100
ASML EUV光源功率提至1000W，2030年目标产能330片/时
ASML开发出1000W光源，目标在2030年前将高数值孔径EUV设备产能从220片/时提升至330片/时。技术突破源于将锡滴速率翻倍至每秒10万次并采用双脉冲激光整形。利空/利空/关注：此为长期技术路线图，对当前芯片供应、价格及交易决策无直接影响。
EUV Lithography Equipment
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来源：Electronics Weekly · 2026/2/23 · 查看原始来源
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